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作 者

王浩、潘乘風(fēng)、Chi Li、Kishan S Menghrajani、Markus A Schmidt、李?yuàn)W凌、樊夫、周宇、張旺、王洪濤、Parvathi Nair Suseela Nair、John You En Chan 、Tomohiro Mori、胡躍強(qiáng)，胡光維、Stefan A Maier 、Haoran Ren、段輝高、Joel K. W. Yang

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機(jī) 構(gòu)

湖南大學(xué)機(jī)械與運(yùn)載工程學(xué)院、新加坡科技設(shè)計(jì)大學(xué)、湖南大學(xué)粵港澳大灣區(qū)創(chuàng)新研究院、新加坡國立大學(xué)、莫納什大學(xué)、萊布尼茲光子技術(shù)研究所、耶拿·弗里德里?！は沾髮W(xué)阿貝光子中心和物理學(xué)院、耶拿·弗里德里?！は沾髮W(xué)奧托·肖特材料研究所、新加坡科學(xué)技術(shù)研究局材料研究與工程研究所、日本和歌山縣工業(yè)技術(shù)中心、南洋理工大學(xué)、倫敦帝國理工學(xué)院

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Citation

Wang H et al. 2024. Two-photon polymerization lithography for imaging optics. Int. J. Extrem. Manuf.6042001.

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https://doi.org/10.1088/2631-7990/ad35fe

撰稿 | 文章作者

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文章導(dǎo)讀

光學(xué)成像系統(tǒng)極大地拓展了人類的視覺能力，使我們能夠觀察和理解多種多樣的現(xiàn)象。成像技術(shù)涵蓋了從X射線到無線電頻率廣泛的波長范圍，影響著學(xué)者的研究活動(dòng)和人們的日常生活。傳統(tǒng)光學(xué)成像系統(tǒng)主要使用玻璃鏡片作為光學(xué)元件，其生產(chǎn)制造過程復(fù)雜。相比而言，聚合物具有多功能性和可塑性，可以通過不同的制造方法實(shí)現(xiàn)復(fù)雜的光學(xué)結(jié)構(gòu)。然而，現(xiàn)代應(yīng)用對(duì)光學(xué)成像系統(tǒng)，特別是對(duì)更小、更輕、更高分辨率光學(xué)元件的需求不斷提高，這給器件微型化和需要具備微納米特征結(jié)構(gòu)制造能力的先進(jìn)設(shè)計(jì)制造帶來了新的挑戰(zhàn)。3D打印或增材制造為應(yīng)對(duì)這些挑戰(zhàn)提供了新的解決方案。該技術(shù)具有快速原型制造、定制幾何形狀和高效生產(chǎn)的優(yōu)點(diǎn)，特別適用于微型光學(xué)成像器件。然而，現(xiàn)有3D打印技術(shù)在納米尺度上實(shí)現(xiàn)精確的結(jié)構(gòu)制造仍面臨挑戰(zhàn)。雙光子聚合光刻（Two-photon polymerization lithography， TPL）是一種納米級(jí)3D打印技術(shù)，通過液態(tài)樹脂中的非線性雙光子吸收過程，能夠制造超越光學(xué)衍射極限的復(fù)雜結(jié)構(gòu)。它提供了前所未有的加工能力，例如無需對(duì)準(zhǔn)的精確制造微納米結(jié)構(gòu)，以及幾乎可以實(shí)現(xiàn)任意復(fù)雜3D納米結(jié)構(gòu)的快速原型制造。

近期，新加坡科技設(shè)計(jì)大學(xué)工程產(chǎn)品開發(fā)學(xué)院Joel K. W. Yang教授，湖南大學(xué)機(jī)械與運(yùn)載工程學(xué)院及湖南大學(xué)粵港澳大灣區(qū)創(chuàng)新研究院段輝高教授，莫納什大學(xué)Haoran Ren研究員及合作者在SCI期刊《極端制造》（International Journal of Extreme Manufacturing, IJEM）上共同發(fā)表《Two-photon polymerization lithography for imaging optics》的綜述論文。該文章強(qiáng)調(diào)了評(píng)估成像器件光學(xué)性能標(biāo)準(zhǔn)的重要性，討論了與TPL相關(guān)的材料屬性、制造技術(shù)，詳述了TPL在光學(xué)成像中的應(yīng)用，探究了應(yīng)對(duì)當(dāng)前挑戰(zhàn)的顛覆性解決方案，并展望了將TPL納入未來光學(xué)成像應(yīng)用的前景（如圖1所示）。本綜述將為研究人員提供相關(guān)領(lǐng)域的基礎(chǔ)知識(shí)以及TPL在成像光學(xué)方面的最新進(jìn)展，促進(jìn)對(duì)該領(lǐng)域更深入的理解，并為利用TPL的高精度微納加工能力、廣泛的材料范圍和全3D工藝技術(shù)，在相關(guān)材料、制造和設(shè)計(jì)方面的進(jìn)一步發(fā)展提供了新的見解。

關(guān)鍵詞

雙光子聚合光刻；3D打印；增材制造；成像；光學(xué)和納米光子學(xué)

亮 點(diǎn)

• 全面概述雙光子聚合光刻技術(shù)在成像光學(xué)領(lǐng)域的發(fā)展和應(yīng)用。

• 系統(tǒng)介紹光學(xué)成像理論、TPL關(guān)鍵材料屬性和制造技術(shù)。

• 分類總結(jié)了TPL的各種成像應(yīng)用。

• 展望了TPL在成像光學(xué)中的未來發(fā)展趨勢(shì)，并就現(xiàn)存挑戰(zhàn)的潛在解決方案提供了新的見解。

圖1雙光子聚合光刻用于成像光學(xué)：包括評(píng)估標(biāo)準(zhǔn)的分類、材料、制造技術(shù)和各種應(yīng)用。

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研究背景

類似于人類用眼睛感知周圍環(huán)境，光學(xué)成像是通過光學(xué)器件準(zhǔn)確呈現(xiàn)物體的過程。這一領(lǐng)域雖傳統(tǒng)卻不斷發(fā)展，已有數(shù)千年歷史，并隨著理論、材料、設(shè)計(jì)、技術(shù)及應(yīng)用的發(fā)展而不斷進(jìn)步。光學(xué)成像系統(tǒng)擴(kuò)展了人眼的視覺能力，例如通過大口徑望遠(yuǎn)鏡探索宇宙，通過顯微鏡研究微觀世界，推動(dòng)了生物學(xué)、化學(xué)、醫(yī)學(xué)等學(xué)科的快速進(jìn)步。目前，光學(xué)成像已超越可見光譜，涵蓋X射線至無線電頻率等。光學(xué)成像技術(shù)的持續(xù)改進(jìn)，如分辨率、光譜靈敏度及多維成像能力的提升，已被廣泛應(yīng)用于消費(fèi)電子產(chǎn)品中，顯著提高了人們的生活質(zhì)量。

傳統(tǒng)的玻璃鏡片生產(chǎn)涉及復(fù)雜的加工步驟，如成型、鑄造和磨削等。高分子聚合物由于成本低、重量輕、制造靈活且透明度高等原因，目前已常用作各種光學(xué)應(yīng)用中的穩(wěn)定基質(zhì)。盡管通常鏡頭的表面粗糙度低于波長的十分之一已足夠，但在高端成像應(yīng)用中，單一鏡頭往往無法滿足需求，常用多鏡頭組合來提高成像質(zhì)量。目前，現(xiàn)代光學(xué)成像器件趨向于小型化、便攜性和集成化。新的光學(xué)成像設(shè)計(jì)理論從折射光學(xué)擴(kuò)展到了衍射光學(xué)和納米光子學(xué)，旨在實(shí)現(xiàn)更薄、更輕的光學(xué)器件，以突破傳統(tǒng)工藝的限制。

3D打印或增材制造技術(shù)提供了解決傳統(tǒng)制造挑戰(zhàn)的新方法。這種技術(shù)通過消除對(duì)準(zhǔn)需求，使生產(chǎn)具有微小特征的光學(xué)器件成為可能。3D打印的優(yōu)勢(shì)包括快速原型制造、定制幾何形狀、最小化廢料和縮短制造時(shí)間等。常用聚合物光刻膠的高透明度和均勻性使其成為理想的微型光學(xué)成像器件材料。各種3D打印方法如熔融絲制造、直接墨水寫入和光學(xué)立體光刻等已被用于制造高質(zhì)量的微米至厘米級(jí)光學(xué)元件。

在納米級(jí)3D打印技術(shù)中，TPL能夠制造超越光學(xué)衍射限制特征大小的任意結(jié)構(gòu)。TPL通過高數(shù)值孔徑物鏡聚焦飛秒脈沖激光，在未固化的光刻膠中形成焦點(diǎn)。在焦點(diǎn)處能量超過閾值強(qiáng)度從而引發(fā)雙光子吸收，使此處光刻膠聚合形成體素。因此，該技術(shù)可以在任意三維空間位置進(jìn)行結(jié)構(gòu)打印。TPL的優(yōu)勢(shì)包括無需對(duì)準(zhǔn)的單步制造和實(shí)現(xiàn)微觀至納米級(jí)特征的能力，廣泛應(yīng)用于光學(xué)和納米光子學(xué)領(lǐng)域，如折射光學(xué)、衍射元件和光學(xué)機(jī)器人等，已成為制造微型光學(xué)成像系統(tǒng)的強(qiáng)大工具。

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最新進(jìn)展

本綜述首先回顧了評(píng)估成像性能的關(guān)鍵參數(shù)，并倡導(dǎo)對(duì)3D打印成像器件進(jìn)行全面的光學(xué)表征。先前的多數(shù)研究工作對(duì)于TPL加工的成像器件并未進(jìn)行系統(tǒng)的性能分析。作者指出，通過融合結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、數(shù)值模擬以及高精度制造技術(shù)，可以將制備工藝本身的局限性，例如體素的固有形狀、鄰近效應(yīng)、聚合不完全和后處理時(shí)的收縮等，直接納入優(yōu)化過程。因此，對(duì)這些因素進(jìn)行魯棒性分析可以進(jìn)一步提高光學(xué)器件的實(shí)際性能。此外，性能評(píng)估應(yīng)在標(biāo)準(zhǔn)條件下進(jìn)行，通過精細(xì)的幾何和光學(xué)表征獲取的數(shù)據(jù)可以納入迭代設(shè)計(jì)過程中，以調(diào)整制造參數(shù)來優(yōu)化成像性能。另外，還可以利用逆向設(shè)計(jì)方法或人工智能，如深度學(xué)習(xí)等，來獲取最佳設(shè)計(jì)，以滿足特定的成像標(biāo)準(zhǔn)。

隨后文章介紹了TPL所用材料的關(guān)鍵屬性，例如聚合轉(zhuǎn)換度、透射率、材料的色散關(guān)系、熱穩(wěn)定性和機(jī)械穩(wěn)定性等，這些屬性對(duì)成像質(zhì)量、器件的應(yīng)用波段和適用工作環(huán)境有重要影響。此外，多材料混合加工技術(shù)可以進(jìn)一步提高器件的成像性能，例如吸收型材料可以去除雜散光以提高成像對(duì)比度，增透膜有助于提高成像效率。在闡明TPL基本工作原理的基礎(chǔ)上（圖2），作者進(jìn)一步總結(jié)了在各種基底上通過TPL加工成像器件的關(guān)鍵技術(shù)，包括平整襯底如高透明度玻璃以及半導(dǎo)體工業(yè)常用的晶圓等。作者還重點(diǎn)介紹了在光纖端面、光學(xué)芯片及波導(dǎo)接口、圖像傳感器等特殊結(jié)構(gòu)和材料界面精確加工的方法，為相關(guān)光學(xué)器件微型化和集成化的發(fā)展提供了可行路徑（圖3，圖4）。

圖2TPL制造的示意圖以及焦點(diǎn)處的三步光化學(xué)過程。

圖3在不同平整襯底上使用TPL加工制備結(jié)構(gòu)。

圖4在光纖端口使用TPL加工制備透鏡。

在對(duì)相關(guān)材料屬性和加工工藝進(jìn)行分析總結(jié)的基礎(chǔ)上，作者對(duì)TPL在光學(xué)成像應(yīng)用中的發(fā)展進(jìn)行了分類總結(jié)，包括：折射透鏡（圖5）、衍射透鏡（圖6）、超透鏡（圖7）、梯度折射率透鏡（圖8）、鏡頭陣列、復(fù)眼（圖9）、動(dòng)態(tài)透鏡（圖10）、內(nèi)窺鏡（圖11）、衍射光學(xué)神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)、計(jì)算成像和其他光學(xué)成像系統(tǒng)（圖12、圖13）。

（1）TPL的精確加工能力可以將傳統(tǒng)的折射透鏡和透鏡陣列直接微型化并保持光滑的結(jié)構(gòu)表面，其3D加工能力可以直接打印集成光學(xué)成像系統(tǒng)，從而避免了復(fù)雜的多光學(xué)元件組裝過程。

圖5使用TPL加工的折射透鏡及其應(yīng)用。

（2）衍射透鏡具有重量輕、易于制造、成本效益高和易于集成等優(yōu)點(diǎn)，在很多領(lǐng)域可以取代傳統(tǒng)的折射透鏡。借助TPL，人們可以便捷地在不同襯底上使用不同材料快速制備2.5D結(jié)構(gòu)的衍射透鏡，以及折衍混合透鏡等實(shí)現(xiàn)消色差成像，以及光針等特殊成像焦點(diǎn)。

圖6使用TPL加工的衍射透鏡及其應(yīng)用。

（3）超透鏡則是更為先進(jìn)的平面光學(xué)器件，由人工設(shè)計(jì)的亞波長結(jié)構(gòu)組成，超緊湊、超薄、更多設(shè)計(jì)自由度和良好的光操控能力使超透鏡近年來在成像光學(xué)中備受關(guān)注。傳統(tǒng)高分辨率的制造方法如電子束光刻（EBL）和聚焦離子束光刻（FIB）可以制作超透鏡的2D或2.5D原型，而TPL可以在保持亞波長特征尺寸的前提下快速制造3D透鏡，為實(shí)現(xiàn)更復(fù)雜的設(shè)計(jì)，獲得更好的成像性能提供了可能。然而目前TPL可實(shí)現(xiàn)的最小特征尺寸約為200納米，這限制了對(duì)較短波長的設(shè)計(jì)能力。

圖7使用TPL加工的超透鏡及其應(yīng)用。

（4）光刻膠的折射率相對(duì)較低，與超透鏡常用的材料（如TiO2、GaN和Si）相比，其操控光的能力較弱。在傳統(tǒng)透鏡中，透鏡的折射率通常是恒定的，然而，通過優(yōu)化TPL工藝，可以通過在整個(gè)材料中實(shí)現(xiàn)連續(xù)變化的折射率來制造透鏡元件，即梯度折射率透鏡（GRIN），且TPL也為制造任意形狀的GRIN元件提供了可能，從而實(shí)現(xiàn)波前的連續(xù)精準(zhǔn)控制。

圖8使用TPL加工的漸變折射率透鏡及其應(yīng)用。

圖9使用TPL加工的透鏡陣列及其應(yīng)用。

（5）靜態(tài)透鏡已經(jīng)在許多微光學(xué)元件的研究中得到應(yīng)用，而動(dòng)態(tài)透鏡則可以使用外部刺激來實(shí)現(xiàn)新功能或?qū)⑵鋺?yīng)用于特定場(chǎng)景以進(jìn)行光控制。借助TPL，可以將靜態(tài)透鏡與動(dòng)態(tài)響應(yīng)材料（例如電場(chǎng)響應(yīng)液晶或用于流動(dòng)液體的微流道）相結(jié)合，從而改變局部折射率以調(diào)節(jié)空間相位和焦距。

圖10使用TPL加工的動(dòng)態(tài)透鏡及其應(yīng)用。

（6）此外，由于TPL的高分辨率、在三維空間中的自由形態(tài)、高速度、高可擴(kuò)展性、易于與現(xiàn)有光學(xué)系統(tǒng)集成等優(yōu)勢(shì)，該技術(shù)可以用于制備大規(guī)模光學(xué)深度神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)（DNNs）并因此促進(jìn)快速增長的人工智能需求。光學(xué)深度神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)或衍射深度神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)（DDNNs）利用光的固有優(yōu)勢(shì)，以光速實(shí)現(xiàn)矩陣-向量乘法，相比電子元器件能耗極低。除了通過TPL直接制造光學(xué)成像元件之外，各種非傳統(tǒng)組件也可以為成像過程做出貢獻(xiàn)，增強(qiáng)成像質(zhì)量并引入補(bǔ)充功能，例如，多級(jí)復(fù)雜3D結(jié)構(gòu)可以輔助精確聚焦，自定義具有內(nèi)部結(jié)構(gòu)的生物仿體可以模擬細(xì)胞的光學(xué)和結(jié)構(gòu)特性，光波導(dǎo)集束實(shí)現(xiàn)超譜成像，逆向設(shè)計(jì)的三維復(fù)雜光子結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)光譜、偏振、軌道角動(dòng)量成像等。獨(dú)特的設(shè)計(jì)與功能預(yù)示TPL將在光子學(xué)領(lǐng)域成為成像應(yīng)用的強(qiáng)大平臺(tái)。

圖11使用TPL加工的光纖端內(nèi)窺鏡及其應(yīng)用。

圖12使用TPL加工的光學(xué)神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)及其應(yīng)用。

圖13其他使用TPL加工的成像光學(xué)器件及其應(yīng)用。

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未來展望

該文為研究人員提供了相關(guān)領(lǐng)域的全面綜述，便于掌握基礎(chǔ)知識(shí)和最新進(jìn)展，從而促進(jìn)對(duì)該領(lǐng)域的深入理解。借助TPL的高分辨率加工能力、廣泛的材料可選擇性和真3D結(jié)構(gòu)制備能力，結(jié)合最新的材料進(jìn)展、制造技術(shù)和設(shè)計(jì)方法，文章討論了現(xiàn)存挑戰(zhàn)的潛在解決方案，并預(yù)測(cè)了TPL在成像光學(xué)領(lǐng)域的前景。如：高折射率、低收縮率和高楊氏模量光刻膠的設(shè)計(jì)開發(fā)；動(dòng)態(tài)響應(yīng)光刻膠的開發(fā)，多材料混合制備工藝；極高精度3D打印工藝；實(shí)時(shí)原位制備過程監(jiān)測(cè)技術(shù)；基于機(jī)器學(xué)習(xí)的結(jié)構(gòu)補(bǔ)償技術(shù)；大面積多尺度批量制備技術(shù)；低能耗連續(xù)激光替代加工方案等。

雖然TPL相對(duì)傳統(tǒng)制造方法具有諸多優(yōu)勢(shì)，但其在工業(yè)生產(chǎn)中的應(yīng)用仍處于初期階段，目前依然面臨諸如材料選擇有限和制造速度慢等各種限制，導(dǎo)致工業(yè)化成本提高。盡管如此，TPL非常適合快速原型制造和為獨(dú)特形狀的成像元件創(chuàng)建模具，為促進(jìn)具有特殊功能光學(xué)器件的實(shí)現(xiàn)提供了可能。通過融合光學(xué)成像的基本原理、材料、創(chuàng)新設(shè)計(jì)和新穎的制造技術(shù)，TPL將繼續(xù)推動(dòng)光學(xué)成像領(lǐng)域的發(fā)展，進(jìn)一步加深我們對(duì)世界的認(rèn)識(shí)（圖14）。

圖14TPL應(yīng)用在成像光學(xué)領(lǐng)域面臨的挑戰(zhàn)及未來發(fā)展方向。

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作者簡(jiǎn)介

Joel K. W. Yang

新加坡科技與設(shè)計(jì)大學(xué)

Joel K. W. Yang于2005年和2009年分別獲得了麻省理工學(xué)院電氣工程和計(jì)算機(jī)科學(xué)系的理學(xué)碩士和博士學(xué)位。他是新加坡科技與設(shè)計(jì)大學(xué)（SUTD）工程產(chǎn)品開發(fā)院教授及副院長，并擔(dān)任新加坡科學(xué)與工程研究院材料研究與工程研究所（IMRE）的首席科學(xué)家。他因在等離子體色彩印刷方面的開拓性工作而備受認(rèn)可，實(shí)現(xiàn)了達(dá)100,000 dpi的記錄級(jí)印刷分辨率，并提出了“salty-developer”工藝而改善了電子束光刻的分辨率。他的研究興趣包括納米等離子體學(xué)、二維和三維納米光學(xué)元件設(shè)計(jì)與制備、以及亞10納米分辨率光刻等。他擔(dān)任《Science Advances》副主編，《Optics Express》副主編，《Opto-Electronic Advances》編輯，以及《ACS Photonics》編輯顧問委員會(huì)成員。他是光學(xué)學(xué)會(huì)（Optica）會(huì)士、新加坡國家研究基金（NRF）杰出研究員（2020級(jí)）和新加坡科學(xué)與工程研究院杰出研究員（2010年）。他的榮譽(yù)包括IPS納米技術(shù)獎(jiǎng)?wù)屡c獎(jiǎng)項(xiàng)（新加坡物理學(xué)會(huì)）、麻省理工技術(shù)評(píng)論TR35獎(jiǎng)和新加坡青年科學(xué)家獎(jiǎng)等。

段輝高

湖南大學(xué)

段輝高博士，湖南大學(xué)機(jī)械與運(yùn)載工程學(xué)院教授，湖南大學(xué)粵港澳大灣區(qū)創(chuàng)新研究院兼深圳研究院院長，國家高效磨削工程技術(shù)研究中心副主任，全國百篇優(yōu)秀博士學(xué)位論文、國家優(yōu)秀青年科學(xué)基金獲得者。2004年及2010年獲蘭州大學(xué)物理學(xué)學(xué)士和博士學(xué)位，曾先后在中國科學(xué)院電工所、美國麻省理工學(xué)院、新加坡科技研究局材料工程研究院、德國斯圖加特大學(xué)、英國南安普頓大學(xué)等機(jī)構(gòu)學(xué)習(xí)、訪學(xué)和工作，2012年加入湖南大學(xué)，目前主要從事微納制造及微系統(tǒng)技術(shù)相關(guān)研究。在《International Journal of Extreme Manufacturing》《Nature Nanotechnology》《Nature Energy》《Nature Communications》《Light: Science & Applications》等國內(nèi)外期刊上發(fā)表論文240余篇，申請(qǐng)和授權(quán)發(fā)明專利60余項(xiàng)，主持國家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃、國家自然科學(xué)基金等國家級(jí)項(xiàng)目10余項(xiàng)。現(xiàn)擔(dān)任《International Journal of Extreme Manufacturing》共主編、《Research》、《IEEE Transactions on Nanotechnology》、《Microelectronic Engineering》、《光學(xué)精密工程》等多個(gè)期刊的副主編或編委，《Engineering》青年通訊專家。

任浩然

莫納什大學(xué)

任浩然博士是莫納什大學(xué)物理與天文學(xué)院的ARC DECRA研究員。他于2022年6月加入莫納什大學(xué)，此前曾在麥考瑞大學(xué)擔(dān)任麥考瑞大學(xué)研究員、慕尼黑大學(xué)路德維希-馬克西米連大學(xué)洪堡研究員，并在RMIT大學(xué)擔(dān)任博士后研究員。他于2017年從斯威本科技大學(xué)獲得博士學(xué)位。他的研究以納米光子學(xué)研究為中心，探索光的多維物理性質(zhì)以及在納米尺度上的光與物質(zhì)相互作用。此外，任浩然博士還擔(dān)任麥考瑞大學(xué)數(shù)學(xué)與物理科學(xué)學(xué)院榮譽(yù)研究員，澳大利亞研究委員會(huì)卓越變形超光學(xué)系統(tǒng)中心（TMOS）副研究員，光學(xué)光子超材料技術(shù)小組主席（2024-2026），是《APL Photonics》早期職業(yè)編輯咨詢委員會(huì)的成員，以及《極端制造》青年編委會(huì)成員。他曾獲得2023年Rising Stars of Light候選獎(jiǎng)、2022年ANZOS Geoff Opat早期職業(yè)研究員獎(jiǎng)、2017年維多利亞獎(jiǎng)學(xué)金和2016年海外杰出自費(fèi)中國留學(xué)生（特等獎(jiǎng)）等獎(jiǎng)項(xiàng)。他曾獲得2024年SPIE 3D打印、加工和制造獎(jiǎng)、《Journal of Optics》新興領(lǐng)袖和2022年MQ研究亮點(diǎn)等榮譽(yù)。

基于雙光子聚合的4D打印及其應(yīng)用

聲光掃描空間開關(guān)雙光子聚合光刻

關(guān)于期刊

International Journal of Extreme Manufacturing(中文《極端制造》），簡(jiǎn)稱IJEM，致力于發(fā)表極端制造領(lǐng)域相關(guān)的高質(zhì)量最新研究成果。自2019年創(chuàng)刊至今，期刊陸續(xù)被SCIE、EI、Scopus等20余個(gè)國際數(shù)據(jù)庫收錄。2023年JCR最新影響因子14.7，位列工程/制造學(xué)科領(lǐng)域第一。中科院分區(qū)工程技術(shù)1區(qū)。

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撰稿: 作者 編輯：范珂艷 審核：關(guān)利超

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