近日,中微半導體設備(上海)股份有限公司(以下簡稱“中微公司”,股票代碼:688012)宣布其刻蝕設備系列喜迎又一里程碑:Primo Menova?12寸金屬刻蝕設備全球首臺機順利付運國內一家重要集成電路研發設計及制造服務商。此項里程碑既標志著中微公司在等離子體刻蝕領域的又一自主創新,也彰顯了公司持續研發的技術能力與穩步發展的綜合實力。
中微公司的 12 英寸 ICP 單腔刻蝕設備 Primo Menova?專注于金屬 Al 線、Al 塊刻蝕,基于 Primo Nanova? 研發,具備刻蝕均一性好、速率高、選擇比高、底層介質損傷低等特點,搭配高效率腔體清潔工藝和高溫水蒸氣除膠腔室,可靈活滿足客戶需求。中微公司的等離子體刻蝕設備已應用于國際一線客戶多種先進制程生產線,覆蓋國內 95% 以上刻蝕應用需求,截至 2024 年底累計超 6000 臺反應臺在 137 條生產線量產。2024 年公司研發投入 24.5 億元,同比增 94.3%,占營收約 27%,在研項目超二十款新設備,研發速度加快,踐行 “五個十大” 文化,堅持技術創新,為客戶提供有競爭力的產品和解決方案。
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破局斷供:泛聯新安推出國產EDA驗證工具免費試用計劃
6月20日,泛聯新安宣布開放自主可控全系EDA工具鏈免費試用,涵蓋多FPGA原型驗證系統等5款工具,旨在攻克關鍵領域“卡脖子”難題,保障芯片供應鏈安全。如需試用,可聯系湯女士(0731-85860107,tangchaoqun@valiantsec.com)。
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