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北方華創發布
12英寸先進低壓化學氣相硅沉積立式爐設備
北方華創發布 SICRIUS PY302 系列 12 英寸低壓化學氣相硅沉積立式爐設備，面向高端邏輯與存儲芯片領域，攻克高深寬比結構填充、高平坦度薄膜生長及兼容低溫工藝三大瓶頸。
該設備通過低壓反應腔等技術實現無缺陷填充與高臺階覆蓋率，以全石英腔室等設計將膜厚均勻性和粗糙度控制在原子級，還集成多種先進工藝功能，降低器件缺陷率。
目前，設備已通過多家領先晶圓廠驗證，實現規模量產并獲重復訂單。作為平臺型企業，北方華創持續聚焦核心裝備技術迭代，助力中國半導體產業發展。
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