在上海一家為芯片設(shè)備制造零部件的精密車間里，總工程師李工指著一枚精密的純陶瓷真空閥門組件介紹著：“以前這枚閥門的核心部件全要進(jìn)口，我們自己攻關(guān)多年，現(xiàn)在純度完全達(dá)標(biāo)，成本也壓低了近四成。”

此類看似“微小”的零部件國產(chǎn)替代浪潮，如今已在整個(gè)中國芯片設(shè)備產(chǎn)業(yè)鏈上星火燎原。

這龐大的芯片設(shè)備制造版圖上，中國正悄然編織起一張?jiān)郊油暾纳a(chǎn)網(wǎng)絡(luò)。從拉晶爐鑄造硅晶圓基礎(chǔ)，到刻蝕設(shè)備勾勒微觀通路，再到薄膜裝置精準(zhǔn)鍍層……各環(huán)節(jié)設(shè)備都已出現(xiàn)了國產(chǎn)核心供應(yīng)商的身影。

誠如半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域資深研究員孫博士所言：“客觀評價(jià)，如今中國半導(dǎo)體設(shè)備的全面性布局堪稱全球少有。從材料源頭到封裝封測末端，都擁有配套的技術(shù)攻堅(jiān)能力。”

然而，在芯片產(chǎn)業(yè)最艱險(xiǎn)的巔峰——EUV光刻機(jī)技術(shù)突破征途上，中國確實(shí)仍需要跨越那段充滿考驗(yàn)的歷程。

一臺EUV設(shè)備堪稱人類制造的極端復(fù)雜裝備。它包含了近百萬個(gè)精密部件，許多模塊代表著現(xiàn)有工程技術(shù)的極限。以光刻機(jī)的光源發(fā)生器為例，需利用超高功率激光精準(zhǔn)擊打在每秒飛速墜落幾萬次的超純錫液滴上，將其擊化為滿足要求的光源等離子體——每一次光刻脈沖，都像完成一次精確至微米的精微狙擊。

再如設(shè)備中多層堆疊如高樓般的十幾噸重的鏡片系統(tǒng)，其中單個(gè)鏡面的加工精度若放大到整個(gè)中國版圖面積，最大起伏都不能超過幾毫米。

不過也不必過度低估中國科研攻堅(jiān)的潛能。一位曾參與國內(nèi)核心光刻研發(fā)的資深工程負(fù)責(zé)人坦言，中國研發(fā)團(tuán)隊(duì)對高端光刻技術(shù)難點(diǎn)的識別精度已是世界級的：“我們從不盲目追求‘大躍進(jìn)’，而是精心剖析每一個(gè)核心組件技術(shù)瓶頸，針對性投入團(tuán)隊(duì)資源去突破。”

目前，一批關(guān)鍵的國產(chǎn)化光刻機(jī)專用高能光源項(xiàng)目已推進(jìn)到工程驗(yàn)證階段；而核心的物鏡系統(tǒng)和精密工件臺的研發(fā)也獲得穩(wěn)定且可觀的支持，進(jìn)入了實(shí)質(zhì)突破周期。

那位曾在頂尖光刻技術(shù)機(jī)構(gòu)工作多年的專家平靜地預(yù)測著：“以我的判斷，五年的時(shí)間跨度對于攻克極紫外光刻（EUV）核心技術(shù)難關(guān)是切實(shí)可行的；但如果要形成完全自主可控的整套工業(yè)化能力，則需要更充分的時(shí)間與產(chǎn)業(yè)鏈整體協(xié)作推進(jìn)。”

此觀點(diǎn)所表達(dá)的是對中國技術(shù)實(shí)力積累的審慎信心，亦是對產(chǎn)業(yè)工程化復(fù)雜現(xiàn)實(shí)的高度尊重。

當(dāng)我們在精密加工車間里看到國產(chǎn)零件穩(wěn)定裝配上高端設(shè)備的那一刻，便已真切觸摸到國家產(chǎn)業(yè)升級的實(shí)質(zhì)脈動。制造大國走向智造強(qiáng)國的征途不會一帆風(fēng)順——但中國芯片設(shè)備的自主替代進(jìn)程，恰如一枚堅(jiān)定的齒輪逐步轉(zhuǎn)動，縱行于荊棘之途，卻能留下不可阻擋的清晰路徑。

前路固然崎嶇，但國內(nèi)科研人員夜以繼日的攻堅(jiān)正讓EUV這顆芯片王冠上的明珠，被中國握緊的希望日甚一日。