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昨天，ASML Holding NV （ASML） 公布了 2025 年第二季度業績。

第二季度總凈銷售額為 77 億歐元，毛利率為 53.7%，凈收入為 23 億歐元

第二季度季度凈預訂量為 55 億歐元，其中 23 億歐元來自EUV光刻機。

ASML 預計 2025 年第三季度的總凈銷售額在 74 億至 79 億歐元之間，毛利率在 50% 至 52% 之間。

ASML 預計 2025 年全年總凈銷售額將比 2024 年增長約 15%，毛利率約為 52%。

ASML總裁兼首席執行官傅恪禮（Christophe Fouquet）表示：“我們2025年第二季度的凈銷售額為77億歐元，處于此前營收預測區間的高位；毛利率為53.7%，高于預期，這主要得益于裝機售后業務中升級服務的增長，以及非經常性的一次性費用帶來的成本下降。”

傅恪禮說：“我們看到光刻機投資在晶圓廠總體投資中所占的比重持續保持強勁，尤其是在DRAM（動態隨機存取存儲器）領域，而TWINSCAN NXE:3800E的推出也進一步鞏固了這一趨勢。與此同時，EUV光刻機的應用正在按計劃推進，其中包括高數值孔徑（High NA）系統。本季度，我們發運了首臺TWINSCAN EXE:5200B系統。”

傅恪禮表示：“展望 2026 年，我們看到 AI 客戶的基本面仍然強勁。與此同時，我們繼續看到宏觀經濟和地緣政治發展帶來的不確定性增加。因此，雖然我們仍在為 2026 年的增長做準備，但現階段我們無法確認。我們預計第三季度總凈銷售額在 74 億至 79 億歐元之間，毛利率在 50% 至 52% 之間。我們預計研發成本約為 12 億歐元，SG&A 成本約為 3.1 億歐元。對于 2025 年全年，我們預計總凈銷售額將增長 15%，毛利率將增長約 52%。”

TWINSCAN EXE:5200B核心特性與優勢

TWINSCAN EXE:5200B 是第二款 0.55 數值孔徑（即 “高數值孔徑”）極紫外（EUV）光刻系統，同時也是 TWINSCAN EXE:5000 的繼任者。該系統在提升套刻精度的同時，進一步提高了生產效率。

相較于 NXE 系列系統，EXE:5200B 的成像對比度提升 40%，分辨率達 8 納米。這一性能使其能通過單次曝光實現比 TWINSCAN NXE 系列小 1.7 倍的特征尺寸，進而使晶體管密度達到后者的 2.9 倍。這有助于簡化大規模生產中的工藝復雜度，提升客戶晶圓廠的晶圓產出量。

EXE:5200B 生產效率的提升得益于改進的 EUV 光源。通過提高晶圓層面的功率輸出，該系統能夠更快地完成晶圓曝光，從而提高系統吞吐量。此外，EXE:5200B 還配備了經優化的投影光學元件 —— 這是與戰略合作伙伴蔡司 SMT（ZEISS SMT）聯合研發的成果。其設計與制造過程經過優化以減少像差，從而最大限度地提升成像質量和套刻性能。

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