中國突破速度實在太快了，日本有些坐不住了。

最近，日本一家很有影響力的媒體《日經(jīng)亞洲》發(fā)表了一篇文章，表達了對中國在光刻機技術方面快速發(fā)展的深深擔憂。

光刻機是制造電腦芯片最核心、最關鍵的機器設備。

這篇文章提到，中國已經(jīng)投入了大約3440億元人民幣，集中力量突破光刻技術難關，目標是要實現(xiàn)芯片制造設備的完全自主生產。

日本方面非常擔心，如果中國真的成功研制出自己的高端光刻機，那么像荷蘭的阿斯麥（ASML）公司和日本的尼康、佳能這些老牌光刻機企業(yè)，在全球的地位就會受到嚴重沖擊。

這種擔憂是有原因的。

長期以來，全世界只有荷蘭的阿斯麥、日本的尼康和佳能這三家企業(yè)能夠生產光刻機。

其中，荷蘭的阿斯麥公司技術最先進，幾乎壟斷了最高端的極紫外光刻技術設備，而尼康和佳能則瞄準的是中低端市場。

不過，這里值得一提的是，這三家公司的光刻機都不是獨立生產的，而是由不少國家聯(lián)合完成。

如果中國真的在光刻機領域形成突破，那將是世界上第一個可以獨立制造光刻機的國家。

而且，日本的擔憂并非空穴來風。

歷史已經(jīng)多次證明，凡是被美國嚴格封鎖的領域，中國總能取得突破，這幾乎成了全球的一種共識。

2023年，中國為了進口光刻機花費了87.54億美元，創(chuàng)下了歷史最高紀錄。

但到了2025年，情況已經(jīng)發(fā)生了很大變化。

中國的工程師們在多個關鍵技術領域取得了實實在在的進展。

比如在光源技術方面，中國科學院成功研發(fā)出一種全新的全固態(tài)深紫外光源。

這種光源體積更小、耗電更少，不再需要依賴進口的稀有氣體，還能產生一種特殊的“渦旋光束”，讓芯片上的電路圖案刻得更精細。

哈爾濱工業(yè)大學則在更尖端的13.5納米極紫外光源技術上取得了突破，為國產最先進的光刻機打下了基礎。

有意思的是，帶領團隊取得這項突破的關鍵人物，是曾經(jīng)在荷蘭阿斯麥公司負責光刻光源技術的林楠。

他通過中國的人才引進計劃回國，帶領團隊用固態(tài)激光技術提高了效率，找到了一條不同于阿斯麥公司的新技術路線。

這些技術突破的背后，是中國強大的產業(yè)鏈協(xié)同能力。

政府通過減稅、研發(fā)補貼以及設立“國家急迫需要專項”等政策提供支持，鼓勵下游的芯片工廠優(yōu)先使用國產設備。華為、中芯國際等大型企業(yè)也深度參與研發(fā)和測試。

最終在不同企業(yè)的配合下，實現(xiàn)共同進步和領域突破。

目前，中國已經(jīng)能夠獨立造出制程在28納米的光刻機，但整體水平與國際頂尖企業(yè)相比還有差距。

這里面最主要的問題是，高端光學元件的國產化率還不到20%；最先進光刻機的量產還需要時間。

對此，中國采取了務實的策略：一方面用國產的28納米光刻機穩(wěn)住基本盤，滿足汽車、家電等對芯片工藝要求不高的行業(yè)需求；

另一方面大量購買阿斯麥的設備作為過渡；

同時，中國還掌握著稀土資源和先進的芯片堆疊技術作為反制手段，后者能將28納米芯片堆疊出接近7納米芯片的性能。

當然，對此我們仍要保持謙虛謹慎的態(tài)度，避免被美國和西方企業(yè)過早發(fā)現(xiàn)中國的科技新動向。

這主要有三個原因：

一是美國擅長使用非常規(guī)手段，一旦有中國科技領軍人物被盯上，存在安全風險；

二是中美關系還沒有完全破裂，現(xiàn)階段中國推進國產光刻設備，可以先集中在滿足軍事等關鍵領域的需求，避免過度刺激美國；

三是必須嚴防技術和情報泄露，讓美國摸不清中國的真實進展和底牌。

美國他們現(xiàn)在最怕的其實就是中國突然宣布停止進口光刻機。

因為這類事件“發(fā)生的太多太多了”，在美國的嚴密封鎖下，中國獨立搞出了開源AI語言大模型“深度求索”（DeepSeek），打破了美國在人工智能領域不可戰(zhàn)勝的神話；

中國還“不聲不響”升級了殲10C戰(zhàn)斗機的雷達系統(tǒng)，使其在實戰(zhàn)中表現(xiàn)驚艷。

中國到底藏了多少“后手”，恐怕連中國自己都說不“清楚”。

這讓人想起前幾年網(wǎng)絡上的段子：

中國政府對本土企業(yè)進行工業(yè)大摸底，結果發(fā)現(xiàn)有造魚竿的企業(yè)竟然能生產航母阻攔索；有傳統(tǒng)快遞企業(yè)，研發(fā)出了能長時間飛行、載重超2噸的重型無人機……

雖然這些只是段子，但它說明中國工業(yè)基礎深厚，潛力巨大，往往在不起眼處蘊藏著突破的能量。

日本媒體觀察到一個規(guī)律：“你試圖阻止的人都會加倍努力以求成功。”

外部的封鎖壓力，反而激發(fā)了中國更強大的創(chuàng)新動力。

中國的優(yōu)勢在于擁有全球最完整的工業(yè)體系和14億人口的龐大市場，這為技術反復試錯和快速迭代提供了獨一無二的土壤。

阿斯麥公司首席執(zhí)行官曾斷言中國需要多年才能造出最先進光刻設備，如今也不得不承認，美國的制裁讓中國光刻機研發(fā)預算翻倍，加速了進程。

中國在光刻機領域的突破，正像高鐵、盾構機一樣，從被“卡脖子”到實現(xiàn)自主，最終可能改變全球科技格局。

如果中國持續(xù)在核心技術上攻堅，未來十年有望將國產光刻機市占率從目前的2.5%提升至15%，并在部分高端領域打破壟斷。

當中國完成“國產替代進口”時，傳統(tǒng)光刻巨頭的市場地位必將重塑。

這條路雖然充滿挑戰(zhàn)，但中國正用決心與投入證明，成為世界上第一個獨立制造最先進光刻機的國家，不再是一個遙不可及的目標。

——THE END——

參考資料：
環(huán)球網(wǎng)——日媒：中國能打造自己的阿斯麥嗎？
極客網(wǎng)——外媒：從28納米到14納米 中國芯片加速進化