芯片界的DeepSeek時刻,國產光刻機不遠了?
前幾天的中國國際半導體展上,最受關注的是一家成立僅3年的深圳公司——新凱來。
原因是,新凱來首次公開亮相,就一口氣展示了6大類共31款產品,覆蓋半導體制造多個環節。
最重要的一點,按照新凱來的說法,所有這些產品的核心零部件全部實現100%國產化。
一鳴驚人的新凱來,究竟是什么來頭?新凱來發布31款產品,意味著什么?國產光刻機離我們還有多遠?
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新凱來
這次新凱來發布的31款半導體產品,命名很有意思。
比如外延沉積設備叫“峨眉山”,原子層沉積設備叫“阿里山”,刻蝕設備叫“武夷山”,薄膜沉積設備叫“長白山”。
無論是工藝裝備,還是檢測裝備,都是以中國的名山作為命名,非常有特色。
從中也能看到企業自主創新的國產替代決心,不畏險阻、勇攀高山,勢必要打破壟斷。
雖然一夜爆火,但提起新凱來這個名字,大多數人可能還很陌生。
這是一家僅僅成立3年的企業,而且前3年基本沒什么消息,就連官方公眾號都是這個月才正式注冊,相當于第一次走進大家的視線。
不過,新凱來母公司是深圳市新凱來技術有限公司,屬于深圳市重大產業投資集團的一員,背靠深圳市國資委,名副其實的“國家隊”。
深圳市重大產業投資集團,這個含金量有多高呢?
官網上,深重投布局的重大產業項目一共就3個,分別是華潤微電子深圳12英寸集成電路生產線、第三代半導體產業鏈項目,還有聯合中芯國際做的中芯深圳高端芯片制造項目。
所以擺明了,新凱來也是深圳在半導體產業鏈上布局的重要一環,用4個字形容就是根正苗紅。
值得一提的是,有消息稱新凱來前身與華為關系非常密切,而且中國名山的命名方式似乎也帶有濃重的華為色彩。
3年磨劍,新凱來把國產光刻機帶入DeepSeek時刻,迎來一波大爆發。
國產光刻機突圍戰
大家都知道,最近幾年時間,我們正在打一場國產光刻機的突圍戰。
就在前年,臺積電的董事長張忠謀還曾發言,說大陸在14納米以下的高端芯片上,產量幾乎為0,技術至少落后兩代。
“如果美國想要以此扼殺中國大陸,他們真的無能為力。”
坦白來講,雖然張忠謀話說得糙了點,但幾十年的差距確實客觀存在,更需要我們奮起直追。
而要說中國真的無能為力,那么這個結論恐怕下得太早了。
以這次火出圈的新凱來為例。
就在4年前,國內在量檢測高端裝備領域幾乎是完全空白一片,包括裝備和對應的零部件、材料及工藝基礎等各個方面,可以說是樣樣不行。
根據VLSI Research和QY Research的調查數據顯示,該行業的CR5指數高達82%,也就是行業內前5大企業的市場份額總額占比能占到82%。
并且這排名前5的裝備供應商,不是來自歐美就來自日本。
但現在4年時間過去,包括新凱來在內的國內半導體裝備企業已經實現突圍,打破了之前的壟斷。
更重要的是,據新凱來公開資料性顯示,其部分設備可以支持7nm以下先進制程,而且已經通過產線驗證。
7nm,有什么特殊含義嗎?
一直以來,7nm被半導體行業視為技術的分水嶺,突破了這個界限,就意味著已經能滿足全球90%以上的芯片需求。
這場持續數年的國產光刻機突圍戰,又一次收到了輝煌戰果。
國產光刻機,離我們還有多遠?
現在整個藍星的“光刻機之王”,毫無疑問還是荷蘭的ASML,生產7nm以下高端芯片所需要的EUV光刻機,全世界只有ASML能生產。
換句話說,ASML就是完全壟斷,市場份額接近100%。
但是,這里要說的是國產光刻機離我們也沒有那么遠,早在去年9月份的時候,工信部就已經官宣了一款28nm的DUV光刻機,當時還在國外社交媒體上引發了不少關注。
28nm,距離7nm是不是有點太遙遠?
從技術層面上來看,確實如此,ASML制造高端EUV光刻機的極紫外線光源,只有美國Cymer公司具備成熟技術,反射鏡面的廠商在德國,芯片上用的復合材料、光刻膠,高純度化學品,基本都是日本專利。
但與此同時,按照我們過往的風格,一直都是應用一批、研發一批、儲備一批,所以官宣的很可能不是最先進的。
尤其是光刻機如此敏感的領域,一些最新的進展信息,外界幾乎沒什么獲得渠道,只能靠猜。
去年9月10日,上海微電子公告顯示已經申請了“極紫外輻射發生裝置及光刻設備”的發明專利,而提交時間是兩年以前。
現在新凱來大爆發,背后釋放的信號很可能是,中國光刻機產業的集中攻堅已經有了長足發展,某些細分領域的“卡脖子”已經不復存在了。
從這樣的角度來說,國產光刻機的距離不會太遙遠,新能源汽車領域彎道超車的故事,正再一次在半導體產業上演。
新凱來橫空出世,中國半導體行業協會的魏少軍教授感慨:
“新凱來的亮相證明,半導體行業是干出來的,不是喊出來的!”
事實證明也確實如此,雖然這幾年半導體行業曝出來的大新聞并不多,但國產光刻機技術一直在進步,堅持自主研發創新,真正打破壟斷只是時間問題。
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