4億美元一臺(tái)！全球最先進(jìn)的光刻機(jī)，終于揭開了神秘面紗！

2025年5月27日，央視首次曝光了一個(gè)重達(dá)180噸的龐然大物：High-NA EUV極紫外光刻機(jī)。

這是全球最先進(jìn)的光刻機(jī)，需要將其拆解成250多個(gè)集裝箱、動(dòng)用7架波音747才能完成運(yùn)輸。

這臺(tái)光刻機(jī)吸引了全球的目光，各國(guó)都爭(zhēng)先恐后預(yù)定，但也只有3家頂尖的芯片制造商拿到了首例。

那么，央視選擇在這個(gè)時(shí)間報(bào)道它，究竟有什么深意？這臺(tái)巨型光刻機(jī)，又有什么過(guò)人之處呢？

全球最先進(jìn)的光刻機(jī)

如今，全球科技競(jìng)爭(zhēng)的主戰(zhàn)場(chǎng)，早就不是比誰(shuí)設(shè)備像素高，誰(shuí)速度運(yùn)行快，而是轉(zhuǎn)移到了芯片制造領(lǐng)域。

而芯片領(lǐng)域的核心競(jìng)爭(zhēng)力，就是光刻機(jī)。

特別是極紫外（EUV）光刻機(jī)，堪稱芯片制造的 “心臟”。誰(shuí)掌握了它，誰(shuí)就握住了高端芯片生產(chǎn)的命脈。

那么，此次曝光的號(hào)稱全球最高端的：High-NA EUV極紫外光刻機(jī)，究竟有多厲害呢？

這么說(shuō)吧，High-NA EUV極紫外光刻機(jī)，堪稱芯片制造領(lǐng)域的 “超級(jí)神器”。

在芯片制造里，精度就是一切，更精細(xì)的電路圖案意味，芯片可以容納更多的晶體管。

而它最厲害的地方，就是利用僅有13.5納米的極紫外光，把電路圖案極其精準(zhǔn)地“刻”在硅片上。

同時(shí)，它還能擁有更高的存儲(chǔ)容量，就像把你的小倉(cāng)庫(kù)一下子擴(kuò)容成了大倉(cāng)庫(kù)，能裝下更多的信息。

在如今數(shù)字化時(shí)代，從我們?nèi)粘Ｊ褂玫氖謾C(jī)、電腦，到高端的超級(jí)計(jì)算機(jī)、人工智能服務(wù)器，再到汽車的自動(dòng)駕駛系統(tǒng)等等，都離不開芯片。

可以說(shuō)，有了High-NA EUV 極紫外光刻機(jī)，就能制造出更先進(jìn)的芯片，讓自家的科技產(chǎn)品性能更強(qiáng)大。

而如此高端的設(shè)備，也意味著，光刻機(jī)的核心技術(shù)也是“變態(tài)至極”。

光刻機(jī)背后的科技“爭(zhēng)霸”

光刻機(jī)的制造，就像是在指甲蓋大小的硅片上建造一座超級(jí)城市，要把數(shù)以億計(jì)的晶體管精準(zhǔn)地 “刻” 出來(lái)。

為了達(dá)到這種精度，光刻機(jī)的整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程必須在真空環(huán)境下進(jìn)行，稍有空氣干擾，刻出來(lái)的圖案就會(huì) “變形”。

這不僅技術(shù)復(fù)雜，而且成本高得嚇人，每一次研發(fā)和改進(jìn)都要燒掉大量的資金。

由于光刻機(jī)的制作難度之高，而且賣得火爆，臺(tái)積電、英特爾、三星這些芯片巨頭們爭(zhēng)得“你死我活”：

為了牢牢守住自己，在芯片代工領(lǐng)域的霸主地位，臺(tái)積電大手一揮，砸下天文數(shù)字般的資金，一口氣采購(gòu)了幾十臺(tái)EUV光刻機(jī)。

英特爾也不甘示弱，四處奔走搶購(gòu)先進(jìn)光刻機(jī)，試圖縮小與競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的差距，重新奪回行業(yè)領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)。

這看似是一場(chǎng)科技的“爭(zhēng)霸”，實(shí)際上，在這背后還隱藏著更多原因......

荷蘭的ASML公司，雖然是全球光刻機(jī)的龍頭老大，但它的很多關(guān)鍵技術(shù)都受到美國(guó)的制約。

美國(guó)讓它賣給誰(shuí)，它就不得不賣給誰(shuí)。

而在這過(guò)程中，美國(guó)為了維護(hù)自己在半導(dǎo)體領(lǐng)域的霸權(quán)地位，多次向荷蘭施壓，要求限制ASML向中國(guó)出口EUV光刻機(jī)。

2025年初，隨著美國(guó)的政策進(jìn)一步收緊，ASML對(duì)中國(guó)的訂單也大幅減少。

我國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)鏈上的企業(yè)人心惶惶，有的企業(yè)因?yàn)槟貌坏较冗M(jìn)光刻機(jī)，生產(chǎn)計(jì)劃被迫推遲。

面對(duì)外部的技術(shù)封鎖與重重壓力，中國(guó)并沒有被嚇倒，而是憋著一股勁，在光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈上發(fā)起了一場(chǎng)“攻堅(jiān)戰(zhàn)”。

中國(guó)光刻機(jī)“攻堅(jiān)戰(zhàn)”

在這場(chǎng)攻堅(jiān)中，科技企業(yè)成為了沖鋒在前的 “主力軍”。

上海微電子作為國(guó)內(nèi)唯一能夠生產(chǎn)高端前道光刻機(jī)整機(jī)的廠商，扛起了國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)發(fā)展的大旗。

科研團(tuán)隊(duì)在實(shí)驗(yàn)室里日夜奮戰(zhàn)，在光刻機(jī)的光學(xué)系統(tǒng)調(diào)試上，哪怕是0.01毫米的誤差，都可能導(dǎo)致光刻圖案的偏差.

所以，團(tuán)隊(duì)成員們需要反復(fù)調(diào)整、測(cè)試，常常為了一個(gè)參數(shù)的優(yōu)化爭(zhēng)論到深夜。

而在機(jī)械傳動(dòng)系統(tǒng)的研發(fā)中，要實(shí)現(xiàn)納米級(jí)的精準(zhǔn)定位，研發(fā)人員不斷嘗試新的材料和工藝，經(jīng)歷了數(shù)百次的失敗，才找到最合適的解決方案。

經(jīng)過(guò)無(wú)數(shù)次的試驗(yàn)與改進(jìn)，如今，他們生產(chǎn)的90nm光刻機(jī)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了量產(chǎn)。

但上海微電子并沒有滿足于此，他們正全力沖刺28nm技術(shù)，朝著更先進(jìn)的“車型”發(fā)起挑戰(zhàn)。

除了整機(jī)制造，我國(guó)在關(guān)鍵材料的突破同樣至關(guān)重要。

光刻膠作為芯片制造的 “關(guān)鍵墨水”，其性能直接決定了芯片的精度和質(zhì)量。

我國(guó)晶瑞電材經(jīng)過(guò)長(zhǎng)期的埋頭鉆研，成功研發(fā)出7nm光刻膠，成功打破了國(guó)外在高端光刻膠領(lǐng)域的長(zhǎng)期壟斷。

而南大光電的ArF光刻膠，在實(shí)際生產(chǎn)線上進(jìn)行反復(fù)測(cè)試和驗(yàn)證后，也順利通過(guò)認(rèn)證。意味著，國(guó)產(chǎn)光刻膠在技術(shù)質(zhì)量上得到了認(rèn)可。

在技術(shù)研發(fā)的道路上，中國(guó)科研人員也不斷傳來(lái)好消息。

中科院采用新型晶體放大器技術(shù)，成功實(shí)現(xiàn)了全固態(tài)深紫外光源技術(shù)突破。

這一技術(shù)改進(jìn)讓設(shè)備體積大大縮小，能耗也降低了不少，節(jié)省了空間和成本。

更重要的是，從理論上來(lái)說(shuō)，這項(xiàng)技術(shù)能夠支持3nm芯片的制造。

當(dāng)然，中國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈的突破離不開政策的大力支持。

早在2020年，我國(guó)就出臺(tái)了一系列政策：

鼓勵(lì)企業(yè)加大研發(fā)投入，支持高校和科研院所開展相關(guān)研究，還為產(chǎn)業(yè)發(fā)展提供資金、人才等多方面的支持。

高校和科研院所積極響應(yīng)，比如哈工大，憑借自身強(qiáng)大的科研實(shí)力，研發(fā)出了先進(jìn)光源技術(shù)。

此外，中國(guó)在光刻機(jī)領(lǐng)域，還有著長(zhǎng)遠(yuǎn)的目標(biāo)和清晰的規(guī)劃：

計(jì)劃在2030年研制出EUV樣機(jī)，中國(guó)還積極探索量子計(jì)算、異構(gòu)架構(gòu)等新賽道。

而且，中國(guó)深知完整產(chǎn)業(yè)鏈的重要性，在EDA設(shè)計(jì)工具、IP核等配套領(lǐng)域持續(xù)發(fā)力，讓中國(guó)的芯片產(chǎn)業(yè)真正實(shí)現(xiàn)獨(dú)立自主、蓬勃發(fā)展。

此次央視曝光相關(guān)設(shè)備，其實(shí)就是在向全世界揭露美國(guó)那種不合理的做法，告訴大家美國(guó)的禁令根本沒有任何正當(dāng)理由，純粹是為了遏制中國(guó)科技企業(yè)的發(fā)展。

這也讓越來(lái)越多的人看清了美國(guó)在科技競(jìng)爭(zhēng)背后的政治操弄，同時(shí)也激發(fā)了中國(guó)在芯片領(lǐng)域自主創(chuàng)新的決心。

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