散英魂寄千萬雄鷹翱翔神州,
盡智魄載十億慧芯呼喚華夏。
——《國務院給予江上舟同志挽聯(lián)》
01
前沿導讀
據(jù)環(huán)球網(wǎng)新聞報道稱,由前ASML研究部科學家、中國科學院上海光機所的林楠博士帶隊,繞過了二氧化碳激光器,使用固態(tài)激光器技術(shù)成功開發(fā)出了LPP-EUV光源,這對于中國發(fā)展自主光刻機產(chǎn)品又推進了一大步。
02
回國發(fā)展
林楠博士曾經(jīng)在荷蘭ASML公司擔任研究部研發(fā)科學家,據(jù)林楠博士在觀察者網(wǎng)舉辦的心智對話節(jié)目中透露,林博士當初是經(jīng)過了11輪的面試,才正式進入了ASML公司擔任技術(shù)工程師。
在面試的過程中,ASML會給相關的面試人員出一些技術(shù)上面的難題,林楠博士通過與技術(shù)團隊的協(xié)作,最終解決了公司給出的技術(shù)問題,被ASML成功錄用。
可以說,林楠博士在光學技術(shù)上面擁有著極具專業(yè)性的技術(shù)能力與行業(yè)知識,并且在光刻機設備的核心光源上面,也有著豐富的技術(shù)研發(fā)經(jīng)驗,是一名貨真價實的頂級光學工程師。
在談論到技術(shù)創(chuàng)新的時候,林楠博士對此表示,ASML之所以能夠成為目前國際光刻機產(chǎn)業(yè)的統(tǒng)治者,是因為其公司人員對于技術(shù)創(chuàng)新的執(zhí)著,并且公司講究多領域的技術(shù)學科大融合,遇到一個技術(shù)難題,多個領域的研發(fā)人員湊在一起共同解決,這是其成功的基石。
林楠博士還重點強調(diào)了只有研發(fā)人員是不夠的,還需要政府在政策上面的扶持,資金上面的支持,以及一些具有前瞻性眼光的領導。
ASML的首席技術(shù)官是馬丁·范登布林克,據(jù)林博士表示,馬丁是一位愿意與研發(fā)人員深入探討技術(shù)本身的領導。身為一個大企業(yè)的領導,還愿意拿出許多時間來與一線的研發(fā)人員進行技術(shù)上面的深度交流,這是需要我們中國的企業(yè),乃至整個世界的企業(yè)都需要學習的榜樣。
2021年,林楠博士從ASML離職后回國,加入到了中國科學院上海光機所擔任研究員。
在談及回國的原因時,林楠博士表示回國是自己私人的原因,ASML有著很不錯的工程師文化,但是由于自己和妻子都是獨生子女,家里面的父母年齡也比較大了,所以希望離家人近一些,選擇了回國。
在林楠博士與ASML領導就回國情況進行交流的過程中,ASML的領導不愿讓他離開,還說可以派林楠博士到中國的ASML分公司工作一段時間。但是林楠博士考慮到長期因素,婉言謝絕了領導的好意。
在談及到ASML的技術(shù)設備以及整個的產(chǎn)業(yè)鏈體系能否被中國企業(yè)進行復制的話題時,林楠博士對此表示,對于跟他一樣的技術(shù)人員來說,如果有選擇的情況下,技術(shù)人員一般都不會去選擇做同樣的事情,不愿意去模仿已經(jīng)開發(fā)完成的技術(shù)產(chǎn)品。
對于技術(shù)人員來說,模仿曾經(jīng)已經(jīng)開發(fā)過的技術(shù)產(chǎn)品,這是一個浪費時間的做法。單純的復制,這并不是什么有挑戰(zhàn)性的工作,前人已經(jīng)把很多事情都做了,你再來重復做同樣的事情是沒有意義的。
如果你想去做,那么就應該用一種不同的方式,開發(fā)一個全新的技術(shù)產(chǎn)品。
03
開發(fā)中國技術(shù)
林楠博士現(xiàn)在正在做的事情,與他在訪談中所表達的理念一模一樣。
根據(jù)林楠博士與其研發(fā)團隊在《激光與光電子學進展》第三期雜志發(fā)表的論文內(nèi)容顯示,研發(fā)團隊提出了一種利用空間束縛激光錫等離子體的寬帶極紫外光高效產(chǎn)生方案,該技術(shù)方案可以應用于先進半導體的高通量量測。
在開發(fā)出全新的技術(shù)方案后,林楠團隊又基于固態(tài)激光器的工作臺,將技術(shù)方案進行了測試。由固態(tài)激光器驅(qū)動的LPP-EUV光源所提供的功率,可以用于EUV技術(shù)的曝光驗證與掩模檢查。
不過由于該技術(shù)方案尚未成熟,目前只局限于實驗室內(nèi)進行測試,1um的固態(tài)激光CE最高可達到3.42%,如果想要達到量產(chǎn)商用的水平,必須要將轉(zhuǎn)化效率提高到5.5%,距離量產(chǎn)商用還需要一段時間。
林楠博士的技術(shù)方案,相當于脫離了ASML原來的二氧化碳激光器,重新用一種全新的光源技術(shù)進行EUV工藝的替代。
ASML曾經(jīng)收購了美國Cymer(西盟)公司,獲得了EUV技術(shù)的驅(qū)動光源。從2019年開始,ASML憑借著來自于全球的供應鏈體系,成為了光刻機產(chǎn)業(yè)的霸主。
在美國針對中國芯片產(chǎn)業(yè)進行全面壓制之后,又對荷蘭政府施壓,禁止ASML向中國出口EUV光刻機,隨后又禁止ASML向中國出口部分先進的DUV光刻機。
這就又回到了林楠博士在訪談中所表述的內(nèi)容,前人已經(jīng)把產(chǎn)品技術(shù)開發(fā)出來了,你再去模仿人家只能是浪費時間。況且ASML在光刻機產(chǎn)品的迭代速度上面也進入了一個快速時期,等你復制出他們的浸潤式DUV設備,人家都進入下一個技術(shù)時代了。
與其當其他企業(yè)的跟隨者,還不如直接抱團去開發(fā)全新的技術(shù)產(chǎn)品。
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