ASML是一家神奇的公司，它壟斷了全球90%的光刻機市場份額，更是獨家生產EUV光刻機，全球沒有競爭對手。

但這樣一家公司，理論上來講，完全是香餑餑的，全球的晶圓廠都要找他，搶購它的光刻機，但他卻也是為業績擔憂。

一方面是ASML自己說了不算，雖然他是荷蘭企業，但上面還有一個“美國爹”，美國不準他的光刻機賣給中國，他就不敢賣，絕不會抗拒。

二是ASML的光刻機也開始走進死胡同了，特別是最高端的EUV光刻機，不僅研發難，且研發成本高，導致價格太貴，大家都不想買了，搞的ASML也是左右為難，不研發不行，研發出來又不好賣。

EUV光刻機，其實是制造7nm以下芯片必須用到的光刻機，全球僅EUV一家能夠生產。

早期的EUV光機，稱之為LOW NA EUV光刻機，因為其數值孔徑是0.33的，后來ASML研發了好多年，又推出了High NA EUV光刻機，數值孔徑是0.55的。

按照ASML的說法，在7-3nm工藝時，大家可以用NA=0.33的EUV光刻機，這種光刻機的價格大約是1.5億美元一臺。

但到了3nm以下，也就是2nm、1.4nm、1nm等工藝時，最好換成NA=0.55的High NA EUV光刻機，因為其數值孔徑更大，分辨率更高，功率也更低，這樣制造時更給力。

不過這種光刻機因為難度大，成本高，所以價格從上一代的1.5億美元，變成了4億美元（約30億元人民幣）。

但是這個高昂的價格，讓想買光刻機的芯片廠犯了難，買吧實在是太貴了，30億一臺，什么時候能收回成本？不買吧，確實性能更強。

所以英特爾、三星還是買了幾臺，到目前為止，也就這兩家廠商買了，且一共只訂了5臺。

可是全球最強的芯片廠臺積電， 卻不買，他說2nm用原來的LOW NA EUV光刻機，甚至1.4/1.6nm也用這種LOW NA EUV光刻機就好了，沒有必要。

因為這種High NA EUV太貴了，劃不來，臺積電在想辦法延長LOW NA EUV光刻機的使用壽命，讓它也能夠制造2nm、1.4nm甚至更小工藝的芯片。

這樣的情況，ASML就真的尷尬了，最新的EUV光刻機，僅賣5臺，肯定是不行的，估計研發成本都沒有收回來，那么接下來的更強大的EUV光刻機，又該如何研發呢，研發了又會有誰來買呢？

ASML現在真的是左右為難了，尷尬極了。不研發新款肯定不行，不可能原地踏步不動了，研發也不行，花巨資研發，最后沒人買單，那可如何是好啊。