芯東西（公眾號：aichip001）
作者 ZeR0
編輯 漠影

芯東西6月24日報道，今日，國內半導體刻蝕設備龍頭中微公司宣布，其刻蝕設備系列喜迎又一里程碑：Primo Menova 12寸金屬刻蝕設備全球首臺機順利付運國內一家重要集成電路研發設計及制造服務商。

這標志著中微公司在等離子體刻蝕領域的又一自主創新。

中微公司的等離子體刻蝕設備已應用在國際一線客戶從65nm到14nm、7nm和5nm及其他先進的集成電路加工制造生產線及先進存儲、先進封裝生產線。

其CCP電容性高能等離子體刻蝕機和ICP電感性低能等離子體刻蝕機，可覆蓋國內95%以上的刻蝕應用需求，在性能優秀、穩定性高等方面滿足了客戶先進制程中各類嚴苛要求。

截至2024年年底，該公司累計已有超過6000臺等離子體刻蝕和化學薄膜設備的反應臺，在國內外137條生產線實現量產和大規模重復性銷售。

中微公司的12英寸ICP單腔刻蝕設備Primo Menova專注于金屬刻蝕，尤其擅長于金屬Al線、Al塊的刻蝕，可廣泛應用于功率半導體、存儲器件和先進邏輯芯片的制造，是晶圓廠金屬化工藝主要設備之一。

Primo Menova基于中微量產的ICP刻蝕產品Primo Nanova研發制造，秉承了優異的刻蝕均一性控制，可達到高速率、高選擇比及低底層介質損傷等刻蝕性能。

這一系統搭配高效率腔體清潔工藝，可減少腔室污染，延長腔體持續運行時間；還集成了配備高溫水蒸氣的除膠腔室（strip chamber），高效去除金屬刻蝕后晶圓表面殘留光刻膠及副產物。

Primo Menova和除膠腔體可根據客戶工藝需求靈活搭配，最大程度滿足客戶高生產效率的要求，確保機臺在高負荷生產中的穩定性與良率。

中微公司資深副總裁叢海透露：“中微公司開發的一系列刻蝕設備在性能、穩定性等方面滿足了客戶的高標準要求，并可覆蓋國內大多數的刻蝕應用需求。”

該公司最近十年著重開發多種導體和半導體化學薄膜設備，如MOCVD、LPCVD，ALD和EPI設備，也在布局光學和電子束量檢測設備，并開發多種泛半導體微觀加工設備。這些設備都是制造各種微觀器件的關鍵設備，可加工和檢測微米級和納米級的各種器件。

在美國TechInsights（原VLSI Research）近五年的全球半導體設備客戶滿意度調查中，中微公司四次獲得總評分第三，薄膜設備四次被評為第一。

根據市場及客戶需求，中微公司顯著加大研發力度，目前在研項目涵蓋6大類、超過20款新設備的開發。其研發新產品的速度顯著加快，過去通常需要3~5年開發一款新設備，現在只需2年或更短時間就能開發出有競爭力的新設備，并順利進入市場。

2024年，中微公司研發總投入達到24.5億元，比2023年增加了94.3%，占營業收入比例約為27%，遠高于科創板上市公司平均研發投入占收入比例的10%到15%。