散英魂寄千萬雄鷹翱翔神州,
盡智魄載十億慧芯呼喚華夏。
——《國務院給予江上舟同志挽聯》
01
前沿導讀
ASML中國區總裁在訪談中對媒體平臺表示,從1988年ASML向中國供應了第一臺芯片制造設備之后,中國市場就成為了ASML公司的重要客戶。隨著芯片產業的不斷發展,中國市場對于光刻機設備的需求日益增長,如果將ASML在中國的光刻機數量與測量的機臺數量加在一起,那么已經有超過1400臺設備在中國區域內投入使用。
中國市場在多個產品領域均有著極大的發展潛力,雖然美國的制裁措施對雙方的合作造成了嚴重影響,但是ASML依然會想辦法繼續與中國市場建立完善的合作關系。
02
市場壓制
中國最早期的光刻機產品,就是在1965年開發完成的65型接觸式曝光機,并且在1970年開始進行配套光學掩膜板的技術開發。1985年,國家機電部完成了分布式光刻機產品的樣機開發。
隨著改革開放的推進,各地區企業開始與海外國家合作,引進海外企業的先進技術設備。ASML就是在這種政策的推動下,于1988年向中國地區運送了一臺光刻機設備,從而打開了中國市場的大門。
由于中國技術部門所開發的光刻機產品還只是存在于實驗室里進行技術驗證,并沒有機會投入市場進行產品制造,也不清楚實驗室當中的光刻機到底能否制造芯片,所以ASML的光刻機設備就成為了中國相關企業的首選技術設備,國產光刻機的研發被暫時擱置。
一直到2000年之后,在江上舟的牽頭下成立了上海微電子公司,開始進行國產光刻機設備的研發制造,這才將中國的光刻機技術重新推動了起來。
目前公開發布的國產光刻機設備只是局限于90nm、55nm的成熟芯片制造,與荷蘭以及日本的先進光刻機產品差距較大。
并且在去年,中國國家部門公開發布了新款的國產干式光刻機之后,日本的尼康、荷蘭的ASML便針對性的也推出了新產品,其產品的硬件水平以及所制造芯片的工藝都與中國的光刻機非常相似。
2024年11月,ASML在中國進口博覽會上面發布了三款DUV光刻機:NXT:1470、NXT:870和XT:260,還有一臺量測設備eScan 1100等。
其中,NXT:1470光刻機的波長為193nm,分辨率為≤57nm,套刻精度≤4.5nm。
而我國工信部發布的光刻機波長為193nm,分辨率≤65nm,套刻精度≤8nm。
ASML的新款低端光刻機設備,不但在配置上面與我們的產品高度相似,而且在曝光分辨率和套刻精度上面均領先我們一些。
與此同時,日本的尼康也在進口博覽會上面發布了由尼康公司開發的浸潤式光刻機設備,據相關工作人員宣稱,該設備可以進行7nm芯片的制造。
ASML與尼康的這種做法,其目的是盡可能的在市場上面壓制中國的光刻機設備,讓國產光刻機在市場上面失去競爭力,從而逼迫中國的相關企業采用ASML的設備來制造芯片。
國產光刻機要投入使用,必然需要經過一系列的驗證測試。而ASML的光刻機設備已經經過了多年的市場檢驗,運送過來后可以在最短的時間內制造芯片,這種高穩定性、高效率的制造設備,會對我們的自主設備產生一個極大的市場壓力。
03
深入產業鏈
ASML負責人對媒體表示,在美國的重重封鎖下,ASML先進的EUV與DUV設備無法與中國市場建立有效的合作,這導致了中國市場在先進芯片技術的發展上面受到了嚴重影響,進而選擇深耕成熟制程芯片。
中國市場已經成為了全球最大的半導體消費地區,并且各行各業持續表現出對半導體芯片產品的極大需求。
在大市場的推動下,中國企業將會把成熟制程的芯片做到一個非常具有國際競爭力的水平。與中國市場合作,深入中國芯片的制造產業鏈當中,這是海外相關企業正在想方設法需要達到的目的。
隨著美國的限制措施不斷升級,中國自主技術迎來了一個前所未有的發展高峰。
中國自主技術的不斷產出,也讓ASML、日本東電、尼康等企業產生了壓力。
ASML前CEO彼得·溫寧克在任職期間,他一直都全力游說美國政府,推動ASML與中國市場的合作。一旦中國企業在制造技術和制造設備上面擁有了可以匹敵海外企業的產品,那么中國企業將會構建一條獨屬于中國模式的芯片產業鏈,成為國際上的一個強軍部隊。
現如今,中國的成熟芯片已經在國際層面開始爆發出優勢。
根據美國半導體協會發布的相關報告顯示:在邏輯芯片領域,尤其是28nm及以上的成熟芯片產品,由中國大陸制造的成熟芯片,在全球的市場占比已經來到了33%,超過了中國臺灣的制造企業,位居全球第一。
根據美國半導體協會的預測,到2032年,中國大陸的成熟芯片市場占比將會繼續增加到37%,再次壓縮其他地區的企業。
并且在200mm以上的商用半導體產能領域,中國大陸地區的市場占比也已經來到了24%,超過了中國臺灣地區以及韓國地區,位居世界第一。根據行業預測,中國大陸在未來幾年將會繼續保持在產能上面的優勢。
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