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來源:內(nèi)容 編譯自 eenews 。
臺灣晶圓代工廠臺積電將在歐洲建立其首個設計中心,并希望在汽車應用的內(nèi)存技術上實現(xiàn)重大飛躍。
歐盟設計中心(EUDC)將設在慕尼黑,預計將專注于汽車領域,但也將支持工業(yè)應用、人工智能(AI)、電信和物聯(lián)網(wǎng)(IoT)的芯片設計。
根據(jù)路透社5月27日周二援引臺積電歐洲區(qū)總裁保羅·德博特(Paul de Bot)的話稱,臺積電將在德國慕尼黑開設芯片設計中心。
這將代表臺積電的戰(zhàn)略轉(zhuǎn)變,該公司通常只專注于芯片制造,但此舉或許是由于歐洲缺乏尖端設計專業(yè)知識,以及需要“手把手”地指導客戶,以充分利用臺積電正在德累斯頓建設的晶圓廠。該晶圓廠預計將于2027年投產(chǎn)。
臺積電高管在荷蘭阿姆斯特丹舉行的臺積電 2025 年歐洲技術研討會開幕式上表示,該設計中心將于 2025 年第三季度開放。
德博特表示:“其目的是支持歐洲客戶設計高密度、高性能和節(jié)能的芯片,重點再次關注汽車、工業(yè)、人工智能和物聯(lián)網(wǎng)領域的應用。”
該設計中心將支持臺積電對歐洲半導體制造公司 (ESMC) 的 100 億歐元投資。ESMC 位于德累斯頓,由臺積電運營,臺積電持有 70% 的股份,恩智浦、英飛凌和博世各持有 10% 的股份。該工廠最初并不打算在尖端工藝上投入運營,而是專注于采用 28/22nm 和 16/12nm 節(jié)點制造汽車和工業(yè)應用芯片。
然而,歐洲政界人士和致力于人工智能和高性能計算芯片的公司希望看到 ESMC 迅速轉(zhuǎn)向 6nm 和 3nm,以提供國內(nèi)生產(chǎn)更先進芯片的能力。
臺積電通常不提供設計服務,但在臺灣,許多公司紛紛涌現(xiàn),能夠為無晶圓廠芯片公司提供幫助,或為其客戶提供交鑰匙設計服務。其中一家公司就是環(huán)球晶圓公司。
歐洲不存在能夠在半導體制造前沿領域運營的類似服務提供商。
此外,ESMC預計將為歐洲小型公司和大學提供機會,這些公司和大學可能也缺乏尖端的設計專業(yè)知識。慕尼黑中心可能會成為芯片開發(fā)和技能轉(zhuǎn)移的重點。
臺積電進軍設計服務領域,將為歐洲客戶提供更全面的設計流程和更快速的芯片交付支持。
5nm的MRAM和RRAM,要來了
考慮到這一點,臺積電已將其 28 納米電阻式 RRAM 存儲器認證用于汽車應用,預計 12 納米版本將滿足同樣嚴格的汽車質(zhì)量要求,并計劃推出 6 納米版本。臺積電還計劃推出 5 納米 MRAM 磁性存儲器。與 MRAM 一樣,RRAM 是 16 納米以下工藝技術上閃存的關鍵替代品。臺積電的 22 納米 MRAM 正在量產(chǎn)中,16 納米 MRAM 已準備好為客戶提供,而 12 納米 MRAM 正在開發(fā)中。
然而,臺積電也在驗證MRAM和RRAM未來分別可擴展至5nm和6nm的工藝。這對于擴展車載ADAS和AI芯片的內(nèi)存至關重要。
EUDC 加入了臺積電現(xiàn)有的遍布臺灣、美國、加拿大、中國大陸和日本的九個全球設計中心網(wǎng)絡,預計將于 2025 年第三季度開業(yè)。
汽車是臺積電今天在阿姆斯特丹舉行的技術研討會上的重點關注點,臺積電預計其 3nm 工藝將在今年晚些時候獲得汽車應用認證。這將用于下一代中央 AI 和 ADAS 芯片,以及 12nm 電阻式 RRAM 存儲器。
智能汽車技術包括汽車級先進封裝、橫向溢流積分電容器 (LOFIC) 圖像傳感器,用于高動態(tài)范圍以處理光照條件的突然變化,由臺積電的 3D 高密度金屬絕緣體金屬 (MiM) 電容器實現(xiàn)
對于汽車 ADAS,它提供了超過 100 dB LED 無閃爍動態(tài)范圍,同時不影響光性能和產(chǎn)生。
在物聯(lián)網(wǎng)領域,臺積電已開始探索性開發(fā)其 4nm N4e 工藝,旨在將電壓從目前的 0.4V 進一步降低,接近閾值電壓。此外,臺積電還在研究超低漏電 SRAM 和邏輯電路,以進一步降低漏電功率,從而延長電池壽命。
N3 預計將成為一個高產(chǎn)量且長期運行的節(jié)點,截至 2025 年 4 月,已有超過 70 個新流片。N3E 已實現(xiàn)旗艦移動和 HPC/AI 產(chǎn)品的大規(guī)模量產(chǎn)。N3P 已于 2024 年第四季度實現(xiàn)量產(chǎn)。
N3A 面向汽車應用,包括駕駛輔助和自動駕駛技術。目前,該產(chǎn)品正在進行最終缺陷改進,并有望獲得 AEC Q100 一級認證,預計將于 2025 年下半年投入生產(chǎn)。
該公司表示,到2030年,汽車將占據(jù)1萬億美元市場的15%,領先于物聯(lián)網(wǎng)的10%。數(shù)據(jù)中心和人工智能當然是增長的驅(qū)動力,預計到2030年,憑借A16和A14制程技術,它們將占據(jù)45%的市場份額,即4500億美元的市場規(guī)模。臺積電將于今年晚些時候在臺灣臺中市啟動Fab 25晶圓廠,專門生產(chǎn)這些技術。
A16 和 A14 預計將采用互補場效應晶體管 (CFET) 設計,將 nFET 和 pFET 垂直堆疊,CFET 的密度幾乎增加一倍。
在顯示技術方面,臺積電宣布推出業(yè)界首個FinFET高壓平臺,將應用于可折疊/輕薄OLED和AR眼鏡。與28HV相比,16HV預計可將DDIC功耗降低約28%,并將邏輯密度提升約41%。
https://www.eenewseurope.com/en/tsmc-looks-to-5nm-mram-plans-first-european-design-centre/
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