7月中旬,經過近10個月的緊張施工,浙大科創中心一期(六階段)項目主樓工程主體結構順利實現全部沖出“正負零”的關鍵節點,標志著項目主樓工程建設正式進入地上結構施工階段。
作為浙江省“千項萬億”重大項目,浙大杭州國際科創中心肩負著深化區校戰略合作的重要使命,旨在滿足國家重大戰略和區域經濟發展需求,打造長三角一體化高質量發展的高能級創新平臺。該項目工程建設內容包括3幢孵化辦公樓、3幢實驗研發中心、CMOS平臺二期、附屬用房及地下室等,計劃于2026年12月底前整體竣工。CMOS平臺二期將重點建設微納超凈實驗室,該實驗室作為芯片研發與生產的核心載體,建成后將顯著提升浙江省集成電路創新平臺的研發能力,為平臺高質量發展提供重要支撐。
項目自開工以來,秉持“開工即大干、起步即沖刺”的理念,克服了工期緊、任務重等挑戰,為確保項目高效推進,項目部嚴格把控建設進度,兼顧施工安全與工程質量,為后續工程推進奠定了堅實基礎。同時,項目各參建單位以“高標準、嚴要求”為導向,科學制定施工計劃,優化資源配置,確保土方開挖、基礎施工等關鍵環節高效推進。
目前,A區主體結構最高施工至二層,B區主體結構最高施工至四層,CMOS二期的A12樓施工至三層。在此過程中,面對雨季、高溫、臺風等不利因素,項目團隊通過精細化管理和技術創新,比原計劃提前15天完成了主樓全部地下室頂板澆筑,為后續工程順利完成奠定了扎實基礎。
下一步,項目建設團隊將圍繞10月至12月各樓棟陸續主體封頂的目標,繼續優化施工組織,確保工程按期高質量交付。
(中冶建設)
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