散英魂寄千萬雄鷹翱翔神州，

盡智魄載十億慧芯呼喚華夏。

——《國務院給予江上舟同志挽聯》

01

前沿導讀

在美國知名平臺Quora當中，有美國網友發問，在沒有美國技術允許的前提下，為什么中國企業敢研發DUV光刻機？

該問題在平臺當中引起了劇烈討論，在各方網友的爭論下，很多網友都認為中國企業是在被美國制裁的封鎖下，被逼無奈才選擇進行自主技術設備的研發。并且美國通過這種制裁壓制的手段，為自己塑造了一個“可怕”的競爭對手。

02

對華限制

在多年前，中芯國際曾花費了巨額資金從ASML采購了EUV光刻機，但是由于美國的制裁封鎖，該設備最終并沒有交付給中國企業。到了2023年，限制措施繼續升級，美國對荷蘭政府施壓，禁止ASML出口給中國企業先進的浸潤式DUV光刻機。

在EUV設備與浸潤式DUV設備的雙重限制下，中國芯片的制造業陷入了瓶頸，無法制造出7nm工藝的先進芯片。

2024年，美國政府向荷蘭、德國、韓國、日本等國家的芯片企業施壓，禁止相關企業跟中國市場合作，禁止其向中國企業出口制造設備。

與此同時，在美國政府的持續壓制下，荷蘭政府對ASML公司進行的限制，禁止其為中國客戶維修、維護光刻機設備，這導致了中國企業曾經采購的大約1400臺芯片制造設備陷入無售后的中斷風險。

該限制措施，不但影響了中國企業使用設備的合法權益，而且還對ASML的在華業務造成了嚴重的負面影響。根據環球網相關報道顯示，ASML有將近50%的銷售額，均來自于中國市場。

美國試圖通過對荷蘭政府施壓，禁止ASML給中國客戶提供設備的零部件更換以及相關的技術支持，以此來在耗材斷供上面逐步癱瘓中國的制造設備。荷蘭的首相迪克·肖夫稱，這一決定是“平衡國家安全與商業利益的必要措施。”

2025年，美國的新制裁措施來襲，禁止臺積電、三星等晶圓制造企業向中國市場出口超過300億晶體管數量的成熟芯片，并且同時對日本、荷蘭等芯片制造商施壓，禁止其向中國企業提供芯片制造所需的材料，以及低端的老舊制造設備。

ASML公司的首席CEO彼得·溫寧克曾經對美國的這種做法提出質疑，認為其混淆了國家安全與貿易政策的邊界。雖然美國通過制裁措施，成功的壓制了中國企業在先進芯片技術上面的研發，但是這種方法會導致中國企業開發出自主的制造設備，從而替代海外的產品。

03

發展自主技術

對于美國的這種對華制裁，有美國的評論家表示：

中國企業如今已經取得了技術突破，而且中國市場是世界上最大的芯片用戶市場，中國企業已經掌握了7nm芯片的制造技術，所以在芯片制造領域，中國企業已經解決了技術困境。美國這種做法簡直是搬起石頭砸自己的腳，讓美國企業最大的客戶市場成為了最大的競爭對手，我不明白美國到底是怎么想的。

根據浸潤式光刻技術的發明人——林本堅在所著書籍《光刻技術》當中的內容表示，使用浸潤式的DUV光刻設備制造先進芯片，在技術上面是完全可行的，需要通過多重曝光和自對準多重圖案化技術來實現，但是在成本、良品率、能效上面是個極大的問題。

而中國的芯片企業，就是通過以上技術方案，成功實現了7nm芯片的制造。

在此之前，用這種技術方案制造先進芯片成功的企業有兩家，一個是英特爾，一個是臺積電。但是英特爾投入了大量資源后，無法解決良品率過低的原因，于是英特爾放棄了這個方案，轉向了EUV技術。而臺積電則成功的解決了量產和能效的問題，并且給華為制造出了麒麟990 4G芯片。

現如今，中國大陸企業是繼臺積電之后，第二家用DUV設備制造7nm芯片并且成功實現了量產的企業。

并且在自主設備上面，中國的各大高校以及科研院均在許多年前開始了技術儲備。北方華創、中微半導體、盛美半導體等領頭的制造設備企業，在刻蝕機、清洗機、薄膜沉積設備等多個產品領域，均開發出了自主可控的芯片制造設備，已經在長電科技的生產線當中進行了技術驗證。

在光刻機產品上面，中國企業已經完成了干式光刻機的全域開發，并且投入了市場使用，浸潤式和EUV技術也在穩步的推進當中。

對于外國平臺質疑中國芯片技術的情況，我國的網友在國外平臺回復到：

美國不是上帝，我們中國的技術發展不需要得到美國的許可。即便美國是神，但是在我們中國的古代神話當中，惡意傷害人的神，也會被人類反殺。

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