廣東
新凱來在這次上海國際博覽會上面大放異彩，但是仍然面臨多重挑戰(zhàn)，尤其是來自美國的。
盡管新凱來在光刻機領域取得了一定的進展，但是與ASML相比仍然存在一定的技術差距。主要是技術路線發(fā)展的問題，雖然通過優(yōu)化DUV光刻機，解決了一些問題，但是由于多重曝光的工藝復雜，良品率偏低的問題，仍然是新凱來進一步發(fā)展光刻機的攔路虎。
美國可能會進一步加強對于中國的技術封鎖，進一步限制關鍵零部件和基礎的出口，繼續(xù)阻撓中國在半導體設備，尤其是光刻機領域的技術發(fā)展。
由于光刻機的結構復雜，需要涉及光學、材料、精密制造等領域，而供應鏈的穩(wěn)定性是一個關鍵因素。雖然新凱來在部分領域取得了技術性突破，但是光刻機能否量產(chǎn)，仍然需要進一步驗證。而供應鏈自主才是我們需要解決的核心問題。
雖然新凱來將會在國內市場上，取得進步，但是國際市場仍然被國際巨頭主導。要想向國際市場進軍除了在技術，品牌影響力以及成本上繼續(xù)努力以外，也不能忽視美國的負面影響力。
新凱來在光刻機領域的突破，帶給了我們希望，但是我們仍然面臨很多技術難題，美國的出口管制，以及供應鏈穩(wěn)定性的挑戰(zhàn)。
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