抗蝕劑?是一種對光敏感的混合液體,通過光化學反應經曝光、顯影等光刻工序,將所需要的微細圖形從光罩(掩膜版)轉移到待加工基片上。抗蝕劑廣泛應用于半導體、顯示面板、PCB(印刷電路板)等領域?。
成分:
?樹脂?:通常為聚合物,如聚異戊二烯,提供材料粘合性?。
?感光劑?:在光照下引發交聯反應,形成不溶于顯影液的結構?。
?溶劑?:如二甲苯,保持材料液態以便涂覆?。
?添加劑?:用于調節感光靈敏度等特性?。
應用:
?半導體制造?:負性抗蝕劑在半導體制造中常用,受光照射的區域會發生聚合,變得更強且難以溶解,適合高分辨率的光刻階段?。
?印刷電路板(PCB)?:干膜光抗蝕劑在PCB制造中用于圖形轉移工藝,具有較好的工藝性能、高質量的成像性能和耐化學性,有助于提高生產率和產品質量?。
?顯示面板?:在顯示面板制造中,抗蝕劑用于定義和轉移微細圖形到基片上?。
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