昨日（7/14），芬蘭原子層沉積（Atomic Layer Deposition，ALD）設(shè)備供應(yīng)商Beneq公司宣布其Micro LED原子層沉積設(shè)備獲得頭部客戶的追加訂單。

圖片來源：Beneq

據(jù)了解，原子層沉積技術(shù)在材料精度控制與表面鈍化等方面扮演者重要角色，可實(shí)現(xiàn)原子級精度的超薄一致性涂層，可有效應(yīng)對Micro LED生產(chǎn)中的關(guān)鍵難點(diǎn)，例如表面缺陷鈍化、側(cè)壁保護(hù)、透明導(dǎo)電氧化物沉積以及最終鈍化工藝，從而提升器件效率與長期可靠性。

Beneq公司的多腔室架構(gòu)支持多種材料與工藝，可幫助客戶優(yōu)化光學(xué)與電氣性能，實(shí)現(xiàn)從實(shí)驗(yàn)室到量產(chǎn)的無縫轉(zhuǎn)化。據(jù)介紹，客戶主要采用其Micro LED設(shè)備，實(shí)現(xiàn)Micro LED與驅(qū)動電子器件在單芯上的單片集成，由此可見，終端應(yīng)用場景可能為AR等可穿戴設(shè)備。

另值得一提的是，Beneq公司在2018年被思銳智能全資收購，后者將其打造為海外研發(fā)中心，通過整合Beneq超過30年成熟應(yīng)用的ALD鍍膜技術(shù)與國內(nèi)產(chǎn)業(yè)化優(yōu)勢，聚焦新興半導(dǎo)體、泛半導(dǎo)體和納米光學(xué)等工業(yè)鍍膜應(yīng)用領(lǐng)域。

思銳智能主要面向“半導(dǎo)體裝備”和“新型顯示”等關(guān)鍵核心技術(shù)，提供原子層沉積鍍膜（ALD）設(shè)備、薄膜電致發(fā)光顯示屏（EL）兩大板塊。該公司持續(xù)推進(jìn)EL透明顯示技術(shù)的研發(fā)與應(yīng)用，聚焦汽車、軌道交通、工程機(jī)械、國防等各類嚴(yán)苛工業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域，為全球客戶提供高可靠、超寬溫和高透光率的顯示解決方案。

LEDinside編譯、整理

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