近幾年，美方之所以能夠發起芯片限制，主要還是因為他們芯片方面有優勢，像芯片設計、材料、設備、軟件等，唯獨光刻機方面已經沒落，還要向日荷施壓實施限制。

美方只有聯合日本、荷蘭共同限制，才能阻撓尖端半導體設備對華出口。不過，美方的目標可沒那么簡單。近日消息傳來，恐怕ASML也始料未及，美方暗牌變明牌了！

美方不僅對我們實施芯片限制，同時也認識到了自己的不足。近年來，因為不斷推進制造業外移，芯片制造份額從37%下滑到12%，導致美方芯片制造也主要依賴外部。

像高通、AMD、英偉達等主要從事芯片設計，芯片代工都是交給臺積電，尤其是先進制程90%依賴。于是，美方推出芯片法案，拿出巨額補貼，想要提升本土制造能力。

美方表面上邀請臺積電、三星等來美投資建廠，實際上想要把先進制程掌握在手中。

后來，美商務部長雷蒙多在一次訪談中表示，美方將建立一個超大的芯片產業集群，未來全球所有的先進制程芯片只能在美方集群中生產。這意圖，已經非常明顯了吧。

因此，臺積電赴美建廠后，才會被不斷施壓，不僅是擴大投資，還要提升先進制程。

晶圓代工巨頭臺積電尚且如此，光刻機巨頭ASML又豈能例外。近幾年，美方發動芯片制裁，不斷擴大光刻機限制范圍。在ASML看來，美方也只是要限制先進光刻機。

但近日消息傳來，美方重金砸向EUV技術，直接挑戰光刻機巨頭ASML。此事的起源要從去年底說起，當時美方就與IBM、美光、應用材料、東京電子等達成合作協議。

計劃投資100億美元，建設下一代High-NA EUV半導體研發中心，研發最先進EUV。

近日，美商務部和美國家半導體技術中心的運營商Natcast共同宣布合作計劃，加強EUV相關技術研發。為此，美商務部承諾，將會利用芯片法案，補貼8.25億美元。

由此可以看出，美方也想要掌控最先進的EUV光刻機。這個計劃的主要參與者之一有美半導體設備巨頭應用材料，這可不是個簡單角色，多年來位居全球設備商第一。

對此，荷蘭ASML恐怕始料未及。一直以來，ASML還嚴格按照美方規則要求，限制EUV和浸潤式DUV對華出口，沒料到美方釜底抽薪，想要直接挑戰它EUV地位。

對此，有外媒直接表示，美方暗牌終于變明牌了，之前限制出貨，只是打壓第一步。

面對美方直接EUV競爭，ASML無可奈何，只能與比利時imec 合作，也開設類似實驗室，加速更先進的技術研發。不過，ASML壓力很大，畢竟EUV技術來自美方。

其實，美方本來有機會繼續引領芯片制造技術，然而英特爾兩次失誤導致錯過機會。

目前，全球只有ASML一家能夠生產EUV光刻機。要知道，當年研發EUV技術的組織可是英特爾牽頭的美企，當時擔心日本威脅，拒絕尼康加入，卻讓ASML加入了。

因為在當時這個技術過于先進、過于復雜，連英特爾都認為很難投入實際應用，于是就沒有繼續推進下去。反而，在ASML堅持研發時，英特爾還投資支持41億美元。

美方就這樣失去了擁有最先進光刻機的第一個機會，后來ASML研發成功，開始出貨EUV時，英特爾沒有使用，因為當時的負責人不相信這項技術能夠發布經濟效益。

反而，臺積電大量采用，成為技術最先進的晶圓廠，而美方再次失去先進制造機會。

后來，英特爾也意識到了錯誤，于是又重啟芯片制造，還爭得最先進High-NA EUV的優先購買權，但似乎已經為時已晚了，再想超越臺積電、三星，機會基本沒有了。

再者說，EUV可是ASML保持領先的關鍵，又是未來利潤的重要支撐，肯定不樂意讓讓美方輕易拿走，所以美方把暗牌變明牌，搞了個EUV技術研發，直接參與競爭！