【太平洋科技快訊】近日,據相關消息透露稱,蘋果正籌備iPhone誕生20周年紀念版,計劃于2027年推出。這款紀念版iPhone將迎來重大設計革新,通過“四邊彎曲”顯示技術實現四曲面真全面屏設計。與目前市面上的曲面屏手機不同,該技術將使屏幕在左右兩側以及頂部和底部邊緣均實現彎曲,從而實現真正的無邊框視覺體驗。
為了實現真正的全面屏,蘋果計劃將前置攝像頭和Face ID傳感器隱藏于屏幕下方。這一技術已經在部分安卓手機上得到應用,而蘋果也一直在研發其自家的屏下攝像頭方案。據悉,蘋果的韓國供應商LG Innotek正在開發一種名為“自由曲面光學”的多鏡頭陣列技術,旨在減少圖像失真并提高亮度,以彌補攝像頭位于顯示屏下方時通常會出現的光損失。
除了四曲面屏,紀念版iPhone還可能采用幾乎全玻璃的機身設計,進一步提升外觀的簡潔性和現代感。在內部硬件方面,蘋果計劃使用16nm FinFET工藝技術的OLED顯示驅動芯片,替代目前28nm平面工藝。
為了滿足用戶對更長續航時間的需求,紀念版iPhone可能會采用純硅電池,而非傳統的石墨基電池。純硅電池的能量密度更高,有望顯著提升設備的續航能力。
四曲面真全面屏設計雖然令人期待,但也帶來了新的技術挑戰。由于屏幕在所有側面彎曲,可能會引入新的應力點,從而更容易在跌落時受損。蘋果需要開發新的材料和結構設計來增強設備的耐用性。此外,無邊框設計可能導致誤觸問題,蘋果需要開發新的防誤觸算法來優化用戶體驗。
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