目前全球僅有一家企業能夠制造EUV光刻機，那就是荷蘭的ASML。

而EUV是制造7nm以下芯片必不可少的設備，所以EUV光刻機至關重要，像臺積電、三星、intel等，都要求著ASML賣EUV光刻機給它們，買不到EUV光刻機，7nm以下芯片就沒法制造。

這么重要且關鍵的設備，美國當然也不允許ASML賣給中國，生怕中國拿到EUV光刻機后，能夠制造7nm以下芯片了，那美國還怎么卡脖子？

那么問題就來了，中國能不能自己造出EUV光刻機？

說實話，如果按照ASML的路線去造，那可能性不太大，至少短期之內沒太多希望，因為ASML采用的是LPP路線，這種路線被ASML設置了眾多的坎，有專利的，有供應鏈的。

LPP路線依賴昂貴復雜的高能激光器轟擊錫滴產生等離子體，核心企業有蔡司、Cymer等等，這些核心企業在全球無可替代，也是ASML唯一綁定的供應商。

所以我們如果采用LPP路線，需要尋找新的蔡司、Cymer這樣的供應鏈，還要突破ASML的專利、技術壁壘、供應鏈封鎖等，才能造出EUV光刻機，這樣難度太大了。

連日本、歐洲等國家和地區，在研發類似的EUV設備時，都不想走LPP路線，轉向納米壓印等技術，可見ASML在這一個方向的封鎖有多嚴。

所以我們要研發自己的EUV光刻機，自然也要盡量繞開ASML的這種LPP路線。

而近日有消息指出，國產EUV光刻機，很大概率會在登場了，這次走的不是ASML的LPP路線，而是LDP路線。

LDP路線指的是激光誘導放電等離子體技術，核心在于讓電極間的錫材料汽化，再通過高壓放電將其轉化為等離子態，然后讓電子與離子激烈碰撞，產生13.5nm的極紫外光。

按照一些媒體的說法，通過LDP路線，目前國產EUV光刻機已經有了很大的突破，取得了實質性進展，也許在今年就有可能推出。

當然目前真假未知，但是如果真的如此，那么ASML的天就真的塌了了，甚至是美國的天都要塌了，一旦我們有EUV光刻機，能制造7nm以下的芯片了，那所有針對我們的芯片禁令，都將徹底失效了。

因為這代表著，我們能夠自己制造出7nm以下先進的邏輯芯片，AI芯片，手機芯片、CPU、GPU等等，那中國芯片產業的崛起，就再也擋不住了。