全球芯片制造這盤棋,ASML是唯一能下棋的人——它家造的EUV光刻機,壟斷著7納米以下先進芯片的生產。但最近這盤棋,ASML自己可能先下僵了。
目前臺積電、三星們用的主力設備是NA=0.33的EUV光刻機,一臺賣1.5億美元。這個NA值就像相機的光圈,數值越大,進光量越多,刻出來的電路就越精細。
按ASML的劇本,接下來該升級到NA=0.55的高數值孔徑設備,分辨率直接拉高一個檔次,2納米芯片就靠它了。可現實狠狠潑了盆冷水:新機器單價飆到4億美元,全球才賣出5臺,連最壕的臺積電都擺手說“不劃算”,轉頭研究怎么把舊設備用到1.4納米。
這對ASML可不是小事。從NA=0.33到0.55,他們砸了十年時間、上百億美金的研發費用,要是客戶不買賬,這錢全得打水漂。更要命的是,ASML原本還畫了更大的餅——NA=0.75的“Hyper NA”光刻機,售價可能直奔8億美元。這價格聽著都離譜,買回去得刻多少芯片才能回本?
現在整個半導體圈都在嘀咕:ASML這條路是不是走偏了?提升NA值確實能提高精度,但代價是設備體積更大、耗能更高,價格高到離譜。更關鍵的是,當NA值逼近物理極限時,繼續往上堆數值就像給老房子加蓋樓層,地基早晚要塌。
有專家直接捅破窗戶紙:與其死磕13.5納米波長的EUV光線,不如換個波長更短的光源。科學界早就在研究6.7納米甚至4.4納米波長的極紫外光,要是能搞定,分辨率問題直接迎刃而解,還不用把設備做得跟卡車似的。但ASML就像個執拗的老工匠,非要拿著舊工具修新房子,愣是不肯換賽道。
說到底,ASML的困境折射出整個芯片行業的焦慮。摩爾定律逼近極限,每前進1納米都像在刀尖上跳舞。當ASML把寶全押在NA值上時,客戶們卻在盤算:花天價買新設備,真能換來足夠的競爭力嗎?臺積電那句“用現有設備撐到1.4納米”,何嘗不是給整個行業敲警鐘。
現在擺在ASML面前的是道生死題:是繼續在NA值上一條路走到黑,還是掉頭研發新一代光源技術?要是賭錯了方向,不光自家幾百億美金要泡湯,整個芯片產業的技術迭代都得跟著停擺。這場豪賭,ASML拖不起,全行業更拖不起。
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