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昨天，ASML Holding NV （ASML） 公布了 2025 年第二季度業(yè)績。

第二季度總凈銷售額為 77 億歐元，毛利率為 53.7%，凈收入為 23 億歐元

第二季度季度凈預(yù)訂量為 55 億歐元，其中 23 億歐元來自EUV光刻機(jī)。

ASML 預(yù)計(jì) 2025 年第三季度的總凈銷售額在 74 億至 79 億歐元之間，毛利率在 50% 至 52% 之間。

ASML 預(yù)計(jì) 2025 年全年總凈銷售額將比 2024 年增長約 15%，毛利率約為 52%。

ASML總裁兼首席執(zhí)行官傅恪禮（Christophe Fouquet）表示：“我們2025年第二季度的凈銷售額為77億歐元，處于此前營收預(yù)測區(qū)間的高位；毛利率為53.7%，高于預(yù)期，這主要得益于裝機(jī)售后業(yè)務(wù)中升級(jí)服務(wù)的增長，以及非經(jīng)常性的一次性費(fèi)用帶來的成本下降。”

傅恪禮說：“我們看到光刻機(jī)投資在晶圓廠總體投資中所占的比重持續(xù)保持強(qiáng)勁，尤其是在DRAM（動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器）領(lǐng)域，而TWINSCAN NXE:3800E的推出也進(jìn)一步鞏固了這一趨勢。與此同時(shí)，EUV光刻機(jī)的應(yīng)用正在按計(jì)劃推進(jìn)，其中包括高數(shù)值孔徑（High NA）系統(tǒng)。本季度，我們發(fā)運(yùn)了首臺(tái)TWINSCAN EXE:5200B系統(tǒng)。”

傅恪禮表示：“展望 2026 年，我們看到 AI 客戶的基本面仍然強(qiáng)勁。與此同時(shí)，我們繼續(xù)看到宏觀經(jīng)濟(jì)和地緣政治發(fā)展帶來的不確定性增加。因此，雖然我們?nèi)栽跒?2026 年的增長做準(zhǔn)備，但現(xiàn)階段我們無法確認(rèn)。我們預(yù)計(jì)第三季度總凈銷售額在 74 億至 79 億歐元之間，毛利率在 50% 至 52% 之間。我們預(yù)計(jì)研發(fā)成本約為 12 億歐元，SG&A 成本約為 3.1 億歐元。對(duì)于 2025 年全年，我們預(yù)計(jì)總凈銷售額將增長 15%，毛利率將增長約 52%。”

TWINSCAN EXE:5200B核心特性與優(yōu)勢

TWINSCAN EXE:5200B 是第二款 0.55 數(shù)值孔徑（即 “高數(shù)值孔徑”）極紫外（EUV）光刻系統(tǒng)，同時(shí)也是 TWINSCAN EXE:5000 的繼任者。該系統(tǒng)在提升套刻精度的同時(shí)，進(jìn)一步提高了生產(chǎn)效率。

相較于 NXE 系列系統(tǒng)，EXE:5200B 的成像對(duì)比度提升 40%，分辨率達(dá) 8 納米。這一性能使其能通過單次曝光實(shí)現(xiàn)比 TWINSCAN NXE 系列小 1.7 倍的特征尺寸，進(jìn)而使晶體管密度達(dá)到后者的 2.9 倍。這有助于簡化大規(guī)模生產(chǎn)中的工藝復(fù)雜度，提升客戶晶圓廠的晶圓產(chǎn)出量。

EXE:5200B 生產(chǎn)效率的提升得益于改進(jìn)的 EUV 光源。通過提高晶圓層面的功率輸出，該系統(tǒng)能夠更快地完成晶圓曝光，從而提高系統(tǒng)吞吐量。此外，EXE:5200B 還配備了經(jīng)優(yōu)化的投影光學(xué)元件 —— 這是與戰(zhàn)略合作伙伴蔡司 SMT（ZEISS SMT）聯(lián)合研發(fā)的成果。其設(shè)計(jì)與制造過程經(jīng)過優(yōu)化以減少像差，從而最大限度地提升成像質(zhì)量和套刻性能。

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