日本媒體《日經亞洲》突然承認，中國快搞出自己的高端光刻機了。這可不是小事，因為光刻機是芯片制造的核心設備，以前全球就荷蘭ASML一家能造最頂尖的。文章說中國用了五年，從連圖紙都看不懂到現在能自己造機子，速度比西方預想的快多了。

事情要從去年說起，中國砸了3440億搞芯片設備，重點攻關光刻機。現在上海微電子已經量產了90納米光刻機，占國內八成市場。更厲害的是，他們用老技術疊加新方法，居然做出了7納米芯片的樣品，雖然成本高但證明能行。

日本和荷蘭慌得很，因為他們的設備賣不動了。今年前兩個月，日本半導體設備出口暴跌6%，主要是中國訂單少了。有個日本公司高管抱怨，以前中國求著買設備，現在連電話都懶得打了。荷蘭ASML倒是還在賺錢，去年中國買了他們41%的設備，但同時也在加速自己研發。

中國搞光刻機有兩招：一是繞開美國的技術封鎖。比如他們不用美國禁運的二氧化碳激光，改用固體激光激發錫等離子體，效率雖然不如ASML，但已經是全球第二。二是另辟蹊徑，比如復旦大學搞了個不用傳統模板的新技術，能在芯片上直接刻0.4微米精度的圖案，適合物聯網這種不太需要頂尖制程的領域。

政府的錢起了大作用。2024年國家芯片基金投了3440億，帶動了1萬多億民間資金，重點攻關光刻機的光源、鏡頭和控制系統。現在中國芯片設備國產化率從三年前20%漲到45%，光刻機是最后的硬骨頭。

不過中國還有短板。比如做最頂尖的極紫外光刻機，光源功率要突破500瓦，現在還差得遠。光學精度也比國際水平低五到十年，國產設備出錯率是進口設備的20倍。但中國有個優勢：全球80%的芯片需求集中在28納米以上成熟制程，國產光刻機正好能打這個市場。

新能源汽車、智能設備這些領域需要的芯片，中國現在能自己造設備生產了。而且他們在研究新方法，比如納米壓印、電子束直寫，說不定能繞過傳統路線，直接建立自己的標準。

ASML現在騎虎難下。他們靠中國賺錢，但中國一邊買設備一邊自己搞研發。ASML總裁說“你越限制，中國人越努力”，結果中國把研發周期縮短了三分之二。最近ASML還宣布要在華加大投入，可能是想拉住這個大客戶。

日本更慘，尼康、佳能的訂單暴跌四到五成。以前他們靠賣設備賺錢，現在中國自己能造了，自然不買了。有日本媒體說，中國光刻機一旦量產，全球芯片設備市場就會變成中、日、荷三國混戰，ASML的壟斷地位不保。

中國的目標很明確：2027年量產14納米光刻機，2030年突破極紫外技術。如果真做到，那中國就不再是跟跑者，而是能和歐美日平起平坐。現在他們已經在物聯網芯片領域用了自家設備，證明能用。

技術差距還在，但中國在一步步追。從北斗導航到5G，中國以前也這么干過，從啥都不會到全球領先。現在光刻機這條路上，他們又開始了同樣的征程。