四川
科創芯片ETF國泰（589100）漲超3.1%，AI驅動先進制程擴產預期強化。
華金證券指出，AI發展推動先進工藝產能（7nm及以下）持續擴張，ArFi/EUV光刻機需求增加。全球半導體制造行業預計從2024年底到2028年產能將以7%的復合年增長率增長，達到每月1110萬片晶圓，其中7nm及以下產能預計從2024年每月85萬片增長至2028年的140萬片，復合年增長率達14%。193nm浸沒式光刻結合多重曝光技術可延長商業周期至7nm節點。臺積電N7及N7P采用DUV（ArFi）光刻機實現57nm柵極間距，而N7+在關鍵層引入EUV光刻機。長期來看，高端光刻機突破是先進制程量產的基石，分辨率取決于光源波長、數值孔徑和光刻工藝因子，浸沒式光刻和計算光刻技術對提升分辨率至關重要。
科創芯片ETF國泰（589100）跟蹤的是科創芯片指數（000685），單日漲跌幅可達20%。該指數從科創板市場中選取涉及半導體材料、設備、芯片設計、制造、封裝與測試等領域的上市公司證券作為指數樣本，以反映芯片產業鏈相關上市公司證券的整體表現。該指數注重技術創新和成長性，覆蓋了芯片產業的上中下游多個環節，具有較強的科技屬性和行業代表性。
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