IWAPS 2025

第九屆國際先進光刻技術研討會（IWAPS）將于10月14-15日在深圳隆重舉行！本次研討會由中國集成電路創新聯盟、中國光學學會主辦，中國科學院微電子研究所、深圳市半導體與集成電路產業聯盟（深芯盟）、南京誠芯集成電路技術研究院有限公司聯合承辦，誠邀全球業界精英共赴這場光刻技術領域的學術盛宴！

國際先進光刻技術研討會（IWAPS），依托中國創新沃土，搭建全球交流平臺。在國內外光刻專家的鼎力支持下，在全球企業、高校、協會等的共同推動下，IWAPS持續構建覆蓋光刻設備、工藝制程、計量檢測、掩模材料、計算光刻、系統協同優化及新型技術等全產業鏈的尖端技術對話平臺。

本屆盛會特別依托深芯盟的產業集群優勢，匯聚深圳及灣區半導體企業、高校與科研機構的協同力量；同時聯動灣芯展的產業生態資源，為全球領軍企業提供展示創新藍圖的舞臺，為科研院所搭建核心技術攻關的交流通道，為青年學者創造技術思辨的活躍氛圍，更為投資機構提供洞察粵港澳大灣區半導體機遇的前瞻窗口。

第九屆IWAPS計劃于

2025年10月14-15日于深圳舉行

請于10月13日報到

歡迎各位學術和產業屆的朋友蒞臨指導，積極投稿演講

SPIE（國際光學工程學會）成立于1955年，是一個致力于光學和光電子學的國際專業組織。總部位于美國華盛頓州貝靈厄姆，SPIE的使命是推進光學和光電子技術的科學、應用、教育和商業。SPIE每年舉辦多個國際會議和展覽，為科學家、工程師和企業提供展示最新研究成果和技術的平臺。此外，SPIE Digital Library是全球最大的光學和光電子學文獻數據庫之一，提供了豐富的學術期刊、會議論文集和書籍，覆蓋光學、光電子學、激光技術、生物醫學光學等領域。這些資源和活動不僅促進了全球光學和光電子學的發展，也推動了創新技術的應用和專業人才的培養。

本屆IWAPS接收論文將被送檢SPIE Digital Library及EI。歡迎大家踴躍報名！

征稿范圍

i. Optical Lithography

ii. Emerging Patterning Technologies

iii. Metrology, Inspection and Testing

iv. Computational Lithography

v. Design and Technology Co-optimization and Design for Manufacturability

vi. Materials

vii. Process

征稿要求

摘要要求

摘要必須清楚地描述論文的性質、研究主題、研究內容、組織結構、要點以及研究意義。且用英文撰寫。

摘要必須包括以下內容：論文標題、關鍵詞、作者的姓名、所屬單位、郵件地址和通訊地址。摘要的字數不應超過500個單詞。對研究內容的細節的描述將增加稿件被接收的可能。同時，我們強烈建議在提交的摘要中使用圖表。

摘要截至日期：2025年7月31日

摘要提交郵箱：iwaps_program@ime.ac.cn

摘要錄用通知日期：2025年8月21日

全文要求

論文摘要被接收后，作者需要按照全文模板的要求提交最終論文。論文全文模板參考SPIE會議標準模板。論文投稿方式待系統開通后公布（將使用SPIE投稿系統，請務必注意時間節點）。若有問題，歡迎聯系會務郵箱：iwaps_program@ime.ac.cn。

本屆會議論文將被送檢SPIE Digital Library及EI，請務必在截止日期前投稿全文，否則不予送檢，請嚴格參考模板格式。

全文提交截止日期 2025年9月30日

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