《科創(chuàng)板日報》7月25日訊（記者 陳俊清） 今日（7月25日），最重磅科創(chuàng)盛會——“2025中國科創(chuàng)領(lǐng)袖大會暨科創(chuàng)板開市六周年”正式開幕。本屆大會由上海報業(yè)集團(tuán)指導(dǎo)，財聯(lián)社、《科創(chuàng)板日報》、上海長三角G60科創(chuàng)集團(tuán)聯(lián)合主辦。

作為此次大會的重要組成部分，“2025科創(chuàng)領(lǐng)袖大會暨集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展閉門會”備受矚目，上海工研院總經(jīng)理董業(yè)民發(fā)表了主題為《建設(shè)“超越摩爾”集成電路產(chǎn)學(xué)研創(chuàng)新平臺和生態(tài)》的演講。

董業(yè)民表示，隨著摩爾定律逼近物理極限，超越摩爾集成電路產(chǎn)學(xué)研的創(chuàng)新發(fā)展和生態(tài)建設(shè)愈發(fā)關(guān)鍵。

董業(yè)民提到，上海為打造科創(chuàng)中心，搭建了諸多共性技術(shù)研發(fā)平臺。當(dāng)前，上海集成電路發(fā)展呈“一體兩翼” 格局，張江作為核心主體人才聚集、產(chǎn)業(yè)鏈完善，臨港也在全市支持下大力發(fā)展半導(dǎo)體制造，而位于嘉定的研究院則專注于汽車電子、醫(yī)療電子等超越摩爾的集成電路領(lǐng)域。

談及創(chuàng)新，董業(yè)民表示，陳吉寧書記特別強(qiáng)調(diào)全過程創(chuàng)新。“早期在政府支持下，依托大學(xué)和研究所，鼓勵高水平的大學(xué)研究所進(jìn)行自由探索。到了后期，走向產(chǎn)業(yè)化階段，則主要依靠企業(yè)，包括領(lǐng)軍型企業(yè)以及中小型創(chuàng)業(yè)企業(yè)。”

從全球范圍看，董業(yè)民表示，我國創(chuàng)新的主體在企業(yè)，但當(dāng)前創(chuàng)新人才大多集中在體制內(nèi)，與企業(yè)創(chuàng)新主體存在錯位現(xiàn)象。推動體制內(nèi)人才流向企業(yè)，但實現(xiàn)這一目標(biāo)并非易事。

在集成電路制造工藝方面，董業(yè)民表示，當(dāng)前兩納米工藝已實現(xiàn)量產(chǎn)，但背后投入巨大。而在另一方面，約80%的應(yīng)用領(lǐng)域，如電力、儲能、光伏、新能源汽車等，所需產(chǎn)品僅需成熟特色工藝。

“多數(shù)情況下，除算力芯片外，45納米、28納米工藝基本能夠滿足需求。若將幾顆芯片通過單芯片集成或異構(gòu)封裝，形成新的芯片、產(chǎn)品或系統(tǒng)，其性能將得到提升，如同遵循摩爾定律一般，這便是“超越摩爾”的發(fā)展方向。”董業(yè)民表示。

對此，董業(yè)民表示，目前，大學(xué)和研究所的很多研發(fā)平臺采用的是四英寸和六英寸工藝，然而半導(dǎo)體制造主流卻是12英寸和8英寸，而4-6英寸與8-12英寸工藝并不完全兼容。為解決這一問題，董業(yè)民認(rèn)為，建立8英寸研發(fā)平臺成為必要。